Литография

Литография это технология в микроэлектронике, применяемая при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных микросхем, а также для наноструктурирования, создания гибридных структур со сверхпроводниками. Универсальный способ получения нужной структуры на поверхности материала.

В процесс литографии можно выделить основные операции, на примере фотолитографии, такие как:

  • очистка поверхности;
  • нанесение фоторезиста, сушка;
  • совмещение, экспонирование;
  • проявление, отмывка, сушка;
  • травление, отмывка, сушка.

В производстве сложных полупроводниковых приборов данные операции многократно повторяются.

Основные виды литографии:

1. Фотолитография или оптическая литография (Photolithography or Optical Lithography) – наиболее простой и доступный метод. Экспонирование при помощи UV-излучения.

а) Контактная литография. При контактной печати пластина кремния, покрытая резистом, находится в непосредственном физическом контакте со стеклянным фотошаблоном

б) Бесконтактная литография. Во время экспонирования между кремниевой пластиной и шаблоном поддерживается небольшой зазор шириной 10- 25 мкм.

в) Проекционная литография. Изображение топологического рисунка шаблона проецируется на кремниевую пластинку, на расстоянии нескольких сантиметров от шаблона.

Среди источников излучения, использующихся в фотолитографии, наиболее распространены:

  • Ртутная лампа (около 400 нм)
  • Эксимерный лазер KrF (248 нм)
  • Эксимерный лазер ArF (193 нм)
  • Эксимерный лазер F2 (157 нм; только экспериментальные установки)

2. Электронно-лучевая литография (Electron Beam Lithography) – электронно-лучевое экспонирование. Высокое разрешение, малая производительность, сложное высоковакуумное оборудование.

3. Лазерная литография (Laser Direct Imaging) – формирование топологии с помощью луча лазера. Безшаблонная технология, относительно малая производительность.

4. Рентгеновская литография (X-Ray Lithography) – экспонирование при помощи рентгеновского излучения. Высокая разрешающая способность, сложное высокотехнологичное оборудование (например, синхротрон).

5. Ионно-лучевая литография (Ion Beam Lithography) – литографический процесс с экспонированием (облучением) резиста ионными пучками нанометрового сечения с длиной волны 10-200 нм.

В обзоре представлено оборудование фотолитографии, лазерной литографии, электронно-лучевой литографии, ионно-лучевой литографии,…

ОАО «КБТЭМ-ОМО»Беларусь www.kb-omo.by
Ultratech Stepper Inc. СШАwww.ultratech.com
Heidelberg Instruments Mikrotechnik Германияwww.himt.de
KLOEФранцияwww.kloe.fr
ELS System Technology Co., Ltd. Тайваньhttp://www.els-tech.com.tw

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.