Lam Research LAM 2300 Versys Kiyo 45 (RIE/TCP/MW)

  • Автоматическая установка плазменного травления с  шлюзовой загрузкой для серийного производства
  • Назначение: травление поликремния, формирование узкощелевой изоляции, травление металлов  (Versys Kiyo 45 Metal) и пр. 
  • До 4-х процессных камер. Варианты: 2300 Kiyo45 Etch, 2300 Micro Wave Strip, 2300 Kiyo45 Poly Etch, 2300 Versys Kiyo 45 Metal
  • Варианты загрузки: в FOUP-контейнерах либо в SMIF-контейнерах
  • Три кассетные загрузочные станции
  • Роботизированное устройство загрузки, ориентации и перемещения пластин
  • Пластины: ø300мм
  • Температура подложкодержателя: до 70°С
  • Источники плазмы: RIE/TCP — нижний электрод — (0÷1500)Вт, 13,56 MГц; верхний электрод — (0÷1500)Вт, 13,56 MГц; MW — (0÷3000)Вт, 2,45 ГГц; системы автоматического согласования
  • Газовая система: до 16 газовых линий с РРГ на каждый газовый шкаф
  • Применяемые газы: HBr, Cl2, NF3, SiCl4, BCl3, CHF3, CH2F2, CF4, SF6, Ar, O2, H2/N2, He, N2 и прочие;расход процессных газов — (1,2÷180) л/ч
  • Сверхчистая H2O
  • Система управления: компьютерная; система управления температурой; система определения окончания процесса
  • Чиллеры, нагреватель
  • Высокопроизводительная вакуумная система: турбомолекулярные насосы, безмасляные форвакуумные насосы
  • Очищенный сухой сжатый воздух
  • Электроэнергия: 208В, 400А, 3ф, 50/60Гц

к списку