Heidelberg ULTRA 200

  • Установка безмасковой лазерной литографии повышенной точности
  • Твердотельный лазер с диодной накачкой ультрафиолетового диапазона с длинной волны 355 нм, до 15 мВт
  • Максимальный размер подложки до 225 х 225 мм2 (опция 425 х 425 мм2)
  • Толщина подложек до 9 мм
  • Максимальная область экспонирования 200 х 200 мм2 (опция 400 х 400 мм2)
  • Минимальный размер структурного элемента 0,5 / 0,7 мкм
  • Размер адресной сетки 5 / 10 нм
  • Режимы многократного нанесения рисунка
  • Шероховатость линии 20 / 40 нм
  • Точность совмещения второго слоя 100 нм
  • Автоматическая система загрузки
  • Скорость экспонирования 325 мм2/мин / 580 мм2/мин
  • Дифференциальный интерферометр с разрешением 1,2 нм
  • Поддержка форматов DXF, MEBES, OASIS, CIF, GDSII, Gerber
  • Размер установки (ШхГхВ) 1560 х 1215 х 2100 мм, масса 3050 кг
  • Размер блока управления (ШхГхВ) 800 х 650 х 1800 мм, масса 180 кг
  • Встроенная прецизионная система поддержания микроклимата ±0,02 ОС, класс чистоты в рабочей зоне установки ИСО 4. Рекомендуемые параметры микроклимата для помещения 21 ± 1 ОС, класс чистоты ИСО 5.

к списку