EpiPro 5000 CVD

  • Установки для получения эпитаксиальных слоев полупроводников путём осаждения из паро-газовой фазы
  • Технологии: с атмосферным или пониженным давлением в реакторах
  • Тонкие пленки: логика CMOS, низковольтные полевые транзисторы
  • Средние пленки: средневольтные полевые транзисторы, аналоговые изделия
  • Толстые пленки от 50 мкм до 100 мкм: высоковольтные полевые транзисторы, изделия силовой электроники
  • Количество и размер обрабатываемых пластин: 35×4”, 24×5”, 18х6”, 8х8”
  • Производительность:

— Пластины 100мм: от 25 до 38 пластин/час при эпитаксиальном слое от 105 до 45 мкм

— Пластины 125мм: от 17 до 27 пластин/час при эпитаксиальном слое от 105 до 45 мкм

— Пластины 150мм: от 12 до 20 пластин/час при эпитаксиальном слое от 105 до 45 мкм

— Пластины 200мм: от 6 до 9 пластин/час при эпитаксиальном слое от 105 до 45 мкм

  • Газы и легирующие смеси: N2, H2, SiHCl3, SiH2Cl2, PH3, HCl
  • Полученные результаты на пластинах 150 мм: Скорость роста эпитаксиального слоя кремния 2 мкм / мин при температуре процесса 1100°С, SiHCl3. Легирующая смесь PH3.  Равномерность толщины 0.78%. Допинг-однородность 2.01%
  • EpiPro 5000 включает несколько улучшений:

— Ультра чистая камера реактора

— Вентилируемая катушка ВЧ генератора

— Микро-ступенчатый узел вращения

— Двойной агрегат подъема скорости

— Охлаждающий воздуховод вокруг колпака

— Кожух реактора и двери камер из нержавеющей стали

  • EpiPro 5000 IG: Повышенная производительность, двухкамерный реактор, толщина пленок от 50 мкм до 100 мкм
  • EpiPro 5000 RP: Для работы с пониженным давлением от 300 Torr до 80 Torr
  • Типовые температуры процессов: 1080, 1100, 1150°C
  • ВЧ генератор индукционного нагревателя*: 380 В, 3 фазы, 152 кВА
  • Скруббер*: 220 В, 1 фаза, 9 кВА
  • Установка: 208/230 В, 1 фаза, 50/60Гц, 42A, 10 кВА
  • CDA для пневматики, давление: мин 414 кПа; мах 689 кПа; ном. 551 кПа
  • Вода для охлаждения, давление: мин 243 кПа; мах 551 кПа
  • Системы EpiPro 5000 можно установить бок о бок, что позволяет сократить занимаемую оборудованием площадь пола чистого помещения до 30% и уменьшить стоимость владения
  • Размеры установки: длина = 116″ (294,6 см), ширина = 116″ (294,6 см), высота = 104″ (264,2 см)

к списку