CDS Epitaxy

GEMINI 3E CVD

  • Установка газофазной эпитаксии для полупроводникового производства
  • Двухкамерный эпитаксиальный реактор
  • Единая система управления для управления параллельной работой реакторов.
  • Размер обрабатываемых пластин: 4″, 5″, 6″

далее


EpiPro 5000 CVD

  • Установки для получения эпитаксиальных слоев полупроводников путём осаждения из паро-газовой фазы
  • Технологии: с атмосферным или пониженным давлением в реакторах
  • Тонкие пленки: логика CMOS, низковольтные полевые транзисторы
  • Средние пленки: средневольтные полевые транзисторы, аналоговые изделия

далее

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.