Applied Materials AMAT Centura 5200 (II) Etch 200mm (ICP/RIE/DCP/MW)

  • Автоматическая многокамерная установка плазменного травления с  шлюзовой загрузкой для серийного производства
  • Назначение: травление кремния с аспектным разрешением >100:1 для МЭМС, травление сложных структур с пошаговым вскрытием каналов для изделий с МОП-транзисторами с супер переходами, травление оксидов индия-олова  и нитрида галлия для светодиодов и силовых приборов, травление металлов, удаление резиста и пассивация пластин.
  • До 4-х процессных камер. Варианты: IPS (травление диэлектриков), eMAX (травление оксидов), Oxide eMXP+ (травление оксидов), Poly Etch MXP (травление поликремния), DPS (травление поликремния), METAL DPS+ (травление металлов (алюминия)), ASP+ (удаление фоторезиста и пассивация пластин), Super E (травление оксидов)
  • Кассетная загрузка / загрузка в SMIF-контейнерах
  • Две кассетные загрузочные станции
  • Роботизированное устройство загрузки, ориентации и перемещения пластин
  • Пластины: ø200мм
  • Подложкодержатель с керамическим / полиимидным электростатическим прижимом и гелиевым охлаждением
  • Источники процессной плазмы: MXP — (0÷1250)Вт, 13,56 MГц; METAL DPS+  — верхний электрод — (0÷2500)Вт, 2 MГц; нижний электрод — (0÷1250)Вт, 13,56 MГц; ASP+  — (0÷1500)Вт, 2.45 ГГц; системы автоматического согласования
  • Газовая система: до 8 газовых линий с РРГ на процессную камеру
  • Применяемые газы: Ar, O2, He, N2. Спецгазы: MXP — CHF3, CH2F2, CF4, Cl2, HBr, BCl3, NF3, SF6, O2/He; DPS — BCl3, HBr, CHF3, Cl2, CF4, Ar, O2, O2/He, He, N2; IPS — CO, NH3, CH3F, CHF3, CH2F2, CF4, C4F8, C2F6; eMXP+  — C4F8, CH3F, CHF3, CO, NH3, CF4; Super E – CO, SO2, CH3F, CHF3, CF4, C4F8, C4F6; и прочие.Расход процессных газов — (3,0÷180) л/ч
  • Система управления: компьютерная; система управления температурой; система определения окончания процесса
  • Чиллеры, нагреватели, скруббер
  • Высокопроизводительная вакуумная система: турбомолекулярные насосы, безмасляные форвакуумные насосы
  • Очищенный сухой сжатый воздух
  • Электроэнергия: 208В, 640А, 3ф, 50/60Гц
  • Габариты: основной модуль — (2395×2075х2604) мм; (без вакуумных насосов, чиллера и т.д.)
  • Вес: основной модуль – 1840/2366 кг; (без вакуумных насосов, чиллера и т.д.)

к списку