TEL UNITY Me (RIE)

  • Автоматическая многокамерная  установка реактивно-ионного травления с  шлюзовой загрузкой для серийного производства
  • Назначение: травление SiO2, SixNy; травление канавок Si, SiC; травление твердых фотошаблонов SiC на SiC пластинах; материалов с низкой диэлектрической проницаемостью; травление поликремниевых затворов; Cu и прочее
  • Процессные камеры: до 4
  • Загрузка в открытых кассетах или в SMIF-контейнерах
  • Две кассетные загрузочные станции
  • Роботизированное сдвоенное устройство загрузки и перемещения пластин
  • Три варианта установки (Ox / Si / SiC) с различными конфигурациями процессных камер (DRM, SCCM, UD) для обеспечения различных видов обработки
  • Пластины: ø8” (SCCM); ø4”, ø6”, ø8” (DRM, UD)
  • Материал подложек: Si, SiC, стекло, сапфир и пр.
  • Оптическая система ориентации пластин
  • Керамический электростатический подложкодержатель с гелиевым охлаждением
  • Источники плазмы: нижний электрод — (0÷3000)Вт, 2 MГц; верхний электрод — (0÷2700)Вт, 60 MГц; системы автоматического согласования
  • Газовая система: до 12 газовых линий с РРГ на каждую процессную камеру
  • Применяемые газы: C3F8, C5F8, C4F8, C4F6, CF4, CHF3, CH3F, CH2F2, SF6, CO, H2, Xe, Ar, O2, He, N2 и прочие;расход процессных газов — (3÷60) л/ч
  • Система управления: компьютерная с сенсорным экраном; система управления температурой; система определения окончания процесса
  • Температурный контроллер, чиллеры
  • Высокопроизводительная вакуумная система: турбомолекулярные насосы, безмасляные форвакуумные насосы
  • Оборотная охлаждающая вода
  • Очищенный сжатый воздух: (6÷8) бар
  • Азот: 30 л/ч
  • Электроэнергия: 208В, 500А, 3ф, 50/60Гц

к списку