SENTECH SI 591 compact (RIE)

  • Автоматическая однореакторная установка реактивно-ионного травления с  шлюзовой загрузкой для НИОКР
  • Назначение: травление полупроводниковых соединений А3В5 (GaAs, InP, GaN, InSb), диэлектриков (SiO2, Si3N4), кварца, стекла, кремния (Si), соединений кремния (SiC, SiGe), металлов
  • Загрузка: через вакуумный загрузочный шлюз, использование фтор- и хлорсодержащих газов . Загрузка по одной пластине или группе пластин на носителе
  • Пластины:  от 100мм до 200мм, оперативное управление температурой пластины за счет водяного охлаждения обратной стороны
  • Рабочая камера: алюминиевая, внутренний ø298мм. Смотровое окно для лазерного интерферометра и оптического эмиссионного спектрометра
  • Электроды: параллельные, верхний электрод — алюминиевый ø250мм, нижний –электрод с подложкодержателем алюминиевый ø216мм,  водяное охлаждение
  • Источник: генератор 600Вт, 13,56МГц, с воздушным охлаждением и автоматическим согласованием сопротивления
  • Газовая система: 4 газовые линии с РРГ, продувочный азот
  • Применяемые газы: CHF3, CF4, SF6, CН4, Н2, N2 и прочие, в т.ч. хлорсодержащие
  • Вакуумная система: турбомолекулярный насос и коррозионностойкий форвакуумный насос
  • Система управления: компьютерная, с Windows 7
  • Электроэнергия: 400В, 3ф, 16А, 50Гц
  • Осушенный безмасляный сжатый воздух: 5 кг/см2
  • Азот: (3÷4) кг/см2, 25 л/процесс, процессной чистоты
  • Охлаждающая вода: (4÷6)  кг/см2, 2 л/мин
  • Вытяжная вентиляция: подключение к газовому шкафу – ø80мм, к насосам – DN 40 KF
  • Габариты: реакторный блок – (655x1050x1400) мм, насосный модуль – (700x500x400) мм
  • Опционно: высокопроизводительная вакуумная система; система рециркуляции с чилером; дополнительные газовые линии; электрод плазменного (PE) травления; дополнительные порты реакторной камеры; система нагрева стенок реактора; система измерения и оповещение об окончании процесса по лазерному интерферометру; оптический эмиссионный спектрометр; кластерное исполнение

к списку