Ultratech Stepper Inc.

Ultratech Star 100

  • Установка (Степпер) проекционной литографии для нанотехнологий и полупроводниковых соединений
  • Экономичное литографическое решение для производства недорогих силовых ИС, линейных чипов и прикладных ИС, МЭМС
  • Универсальный инструмент для приложений, заменяющих устаревшие сканеры и контактные принтеры
  • Диаметр обрабатываемых пластин (перенастраиваемый) от 75 мм до 200 мм

далее


Ultratech Prisma-ghi

  • Установка (Степпер) проекционной литографии на базе Star 100 для исследований в областях нанотехнологий, МНЭМС и бампинг-технологий 
  • 1X литография
  • Возможность экспозиции резистов i-, gh- и ghi- линиями спектра
  • Дополнительные светофильтры позволяют выбирать длину волны

далее


Ultratech AP200, Ultratech AP300

  • Степперы для бампинг-фотолитографии
  • Используется бесконтактная 1X проекционная технология
  • Возможность широкополосного облучения дает возможность экспозиции резистов i-, gh- и ghi- линиями спектра
  • Автоматически перестраиваемый держатель для пластин 150 и 200 мм (AP200) или 200 и 300 мм (AP300)

далее


Ultratech NanoTech 160

  • Степпер для двухстороннего малоразмерного совмещения
  • Установка проекционной литографии для полупроводников, тонкопленочных технологий и МНЭМС
  • Применяется технология визуального контроля
  • Роботизированное устройство перемещения пластин толщиной до 1,2 мм

далее


Ultratech NanoTech 190

  • Степпер для малоразмерных тонкопленочных головок
  • Установка проекционной литографии для малоразмерных тонкопленочных головок
  • Новая конструкция держателя для улучшения точности и воспроизводимости
  • Применяется технология визуального контроля

далее


Ultratech UltraMet 100

  • Установка контроля двухстороннего совмещения
  • Применяется при производстве МНЭМС и других приборов с наноразмерами
  • Применяется для различных размеров подложек и приборов
  • Используется компьютерное видеоизмерительное устройство

далее


Ultratech LSA101

  • Установка лазерной литографии
  • Предназначена для массового производства продвинутых логических устройств от узлов 40 нм до 14 нм.
  • Использует один узкий лазерный луч для нагрева поверхности пластины от температуры подложки до пиковой температуры отжига.

далее


Ultratech LSA201

  • Установка лазерной литографии
  • Полное управление средой в сканирующей лазерной системе.
  • Длинноволновый лазер, угол полной поляризации, p-поляризованный свет обеспчивают оптимальную однородность матрицы
  • Замкнутый контроль температуры с обратной связью для поддержания контроля температуры

далее