SAMCO RIE-600iPC (ICP)

  • Специализированная установка травления высокоплотной индуктивно-связанной плазмой с кассетной загрузкой для НИОКР и производства
  • Назначение: изготовление SiO2 шаблонов для (высокоскоростное травление SiO2) и высокоскоростное травления SiC для производства мощных приборов; производство оптических устройств (оптических волноводов и микролинз); производство микроканалов;  производство различных датчиков    
  • Рабочая камера: из алюминия
  • Загрузочная камера: алюминиевая, с вакуумным роботом-перегрузчиком
  • Перемещение пластин: вакуумным автоматическим манипулятором
  • Пластины:  до 150 мм, оперативное управление температурой пластины за счет гелиевого охлаждения обратной стороны 
  • Электроды: ИСП –электрод (верхний) — Planar ICP Coil Electrode, нижний – регулируемый по высоте электрод. Высоковольтный электростатический держатель пластины с гелиевым охлаждением обратной стороны
  • Источник ИСП: 3000Вт (Planar ICP Coil), 13,56МГц. Источника смещения – 600/1000/3000Вт, 13,56МГц
  • Газовая система: газовые линии с РРГ 
  • Применяемые газы: SF6, O2, Ar, Не, N2 и прочие
  • Вакуумная система: для рабочей камеры — турбомолекулярный насос и безмасляный форвакуумный насос; для загрузочной камеры — турбомолекулярный насос  и безмасляный форвакуумный насос; для кассетной камеры — безмасляный форвакуумный насос
  • Система управления: компьютеризированная сенсорная панель обеспечивает контроль за параметрами процесса, ввод и хранение технологических программ, протоколирование данных
  • Габариты: (1080x2000x1748) мм
  • Окончание процесса: визуально/по интерферометру
  • Опционно: до 8 газовых линий

к списку