SAMCO

SAMCO PD-220N, NA (PECVD)

  • Компактная установка анодного плазмо-активированного химического осаждения тонких пленок для НИОКР и пилотного производства с открытой загрузкой
  • Назначение: осаждение кремнесодержащих тонких пленок: оксидов кремния (SiOx), нитридов кремния (SixNy), оксинитридов кремния (SiOxNy), гидрогенизированного аморфного кремния (a-Si:H). Поддержка продолжительного выполнения множественных разнородных процессов, например, процесс очистки пластин и затем процесс осаждения
  • Загрузка: пластины ø3″ – 5шт., ø4″ – 3шт., ø8″ – 1шт.

Электроды: размещены параллельно, зазор между электродами – 25мм. Верхний электрод – ø277мм, алюминий с обработанной поверхностью и распылительной головкой. Нижний электрод – ø260мм из нержавеющей стали, с покрытием из алюминия  ø310мм с углублением ø230мм (ø220мм – зона однородного осаждения), с резистивным нагревом до 400°C максимум и ПИД-регулированием    

далее


SAMCO PD-220NL(PECVD)

  • Компактная установка анодного плазмо-активированного химического осаждения тонких пленок для НИОКР и пилотного производства с шлюзовой загрузкой
  • Назначение: осаждение кремнесодержащих тонких пленок: оксидов кремния (SiOx), нитридов кремния (SixNy), оксинитридов кремния (SiOxNy), гидрогенизированного аморфного кремния (a-Si:H). Поддержка продолжительного выполнения множественных разнородных процессов, например, процесс очистки пластин и затем процесс осаждения
  • Загрузка: пластины ø3″ – 5шт., ø4″ – 3шт., ø8″ – 1шт.
  • Использование загрузочного шлюза позволяет постоянно держать рабочую камеру в условиях вакуума, что особенно важно при использовании легирующих газов

далее


SAMCO PD-2203L (PECVD)

  • Кластерная установка анодного плазмо-активированного химического осаждения пленок для пилотного производства. В кластере вокруг центрального загрузочного блока могут быть размещены до 3-х блоков с рабочими камерами
  • Назначение: пилотное производство жидкокристаллических дисплеев; осаждение пассивирующих слоев для органических электролюминесцентных приборов; осаждение аморфного кремния (a-Si:H) для солнечных элементов; осаждение пленок: оксидов кремния (SiOx) и нитридов кремния (SixNy)
  • Габариты основного блока: 1613 x 2145 x 1799 мм

далее


SAMCO PD-220LC (PECVD)

  • Установка анодного плазмо-активированного химического осаждения пассивирующих слоев и межслоевых диэлектриков на полупроводниковые соединения для крупносерийного производства с кассетной загрузкой
  • Назначение: осаждение кремнесодержащих тонких пленок: оксидов кремния (SiOx), нитридов кремния (SixNy), оксинитридов кремния (SiOxNy), гидрогенизированного аморфного кремния (a-Si:H)
  • Загрузка: пластины ø2″ – 8шт., ø3″ – 5шт., ø4″ – 3шт., ø8″ – 1шт.
  • Конструкция рабочей камеры минимизирует выделение частиц и предусматривает возможность нагрева стенок

далее


SAMCO PD-3800 (PECVD)

  • Автоматическая установка анодного плазмо-активированного химического осаждения тонких пленок с открытой загрузкой для НИОКР и производственных задач
  • Назначение: осаждение кремнесодержащих тонких пленок: оксидов кремния (SiOx), нитридов кремния (SixNy), оксинитридов кремния (SiOxNy), аморфного кремния (a-Si:H) и алмазоподобных углеродных покрытий
  • Загрузка ручная, открытая: подложки 210 х 295 мм
  • Нижний электрод: 360 мм

далее


SAMCO PD-3800L (PECVD)

  • Автоматическая установка анодного плазмо-активированного химического осаждения тонких пленок для массового производства с камерой загрузки
  • Назначение: осаждение кремнесодержащих тонких пленок: оксидов кремния (SiOx), нитридов кремния (SixNy), аморфного кремния (a-Si:H), керамических тонких пленок
  • Загрузка: через загрузочный шлюз
  • Перемещение пластин: линейным автоматическим манипулятором

далее


SAMCO PD-4800 (PECVD)

  • Автоматическая установка анодного плазмо-активированного химического осаждения тонких пленок с открытой загрузкой для НИОКР и решения производственных задач
  • Назначение: осаждение кремнесодержащих тонких пленок: оксидов кремния (SiOx), нитридов кремния (SixNy), оксинитридов кремния (SiOxNy), аморфного кремния (a-Si:H) и алмазоподобных углеродных покрытий
  • Загрузка ручная, открытая
  • Подложкодержатель: 428 мм

далее


SAMCO PD-5400 (PECVD)

  • Автоматическая установка анодного плазмо-активированного химического осаждения тонких пленок с открытой загрузкой для НИОКР и решения производственных задач
  • Назначение: осаждение кремнесодержащих тонких пленок: оксидов кремния (SiOx), нитридов кремния (SixNy), оксинитридов кремния (SiOxNy), аморфного кремния (a-Si:H) и алмазоподобных углеродных покрытий
  • Загрузка ручная, открытая
  • Подложкодержатель: 540 мм

далее


SAMCO PD-100ST (PECVD)

  • Автоматическая установка катодного плазмо-активированного химического осаждения пленок с открытой загрузкой для НИОКР
  • Применяются жидкостные источники реагентов (TEOS) и низкотемпературные процессы для обеспечения высокой скорости осаждения
  • Сильное электрическое поле вокруг подложкодержателя с катодной связью генерирует ионы с высоким уровнем энергии, обеспечивающими осаждение пленок SiO2 с низким остаточным напряжением и предельной толщиной пленки до 50 мкм 
  • Назначение: для организации переходных отверстий в кремнии и 3D-упаковки; высококонформные пленки для МЭМС; высокоскоростное осаждение толстых пленок: оксидов кремния (до 30 мкм); производство световодов; производство масок для травления для микромеханики; осаждение пленок на пластиковые поверхности; низкотемпературное осаждение (от температуры окружающего воздуха до 300°C)

далее


SAMCO PD-270STP (PECVD)

  • Автоматическая установка катодного плазмо-активированного химического осаждения пленок с открытой загрузкой для НИОКР
  • Применяются жидкостные источники реагентов (TEOS) и низкотемпературные процессы для обеспечения высокой скорости осаждения
  • Сильное электрическое поле вокруг подложкодержателя с катодной связью генерирует ионы с высоким уровнем энергии, обеспечивающими осаждение пленок SiO2 с низким остаточным напряжением и предельной толщиной пленки порядка 30 мкм 
  • Назначение: высокоскоростное (3000÷5000 Å/мин) осаждение толстых пленок: оксидов кремния (до 30 мкм); производство световодов; производство масок для травления для микромеханики; осаждение пленок на пластиковые поверхности; низкотемпературное осаждение (от температуры окружающего воздуха до 300°C)

далее


SAMCO PD-270STL(PECVD)

  • Автоматическая установка катодного плазмо-активированного химического осаждения пленок с загрузочным шлюзом для НИОКР
  • Применяются жидкостные источники реагентов (TEOS) и низкотемпературные процессы для обеспечения высокой скорости осаждения
  • Сильное электрическое поле вокруг подложкодержателя с катодной связью генерирует ионы с высоким уровнем энергии, обеспечивающими осаждение пленок SiO2 с низким остаточным напряжением и предельной толщиной пленки порядка 30 мкм 
  • Назначение: высокоскоростное (3000÷5000 Å/мин) осаждение толстых пленок: оксидов кремния (до 30 мкм); производство световодов; производство масок для травления для микромеханики; осаждение пленок на пластиковые поверхности; низкотемпературное осаждение (от температуры окружающего воздуха до 300°C)

далее


SAMCO PD-330STLC(PECVD)

  • Автоматическая установка катодного плазмо-активированного химического осаждения пленок с кассетной загрузкой для серийного производства
  • Применяются жидкостные источники реагентов (TEOS) и низкотемпературные процессы (80÷300) °Cдля обеспечения высокой скорости осаждения ненапряженных пленок SiO2
  • Сильное электрическое поле вокруг подложкодержателя с катодной связью генерирует ионы с высоким уровнем энергии, обеспечивающими осаждение пленок SiO2 с низким остаточным напряжением и предельной толщиной пленки порядка 30 мкм 
  • Назначение: для организации переходных отверстий в кремнии и 3D-упаковки; высококонформные пленки для МЭМС; высокоскоростное осаждение толстых пленок: оксидов кремния (до 30 мкм); производство световодов; производство масок для травления для микромеханики; осаждение пленок на пластиковые поверхности; низкотемпературное осаждение (от температуры окружающего воздуха до 300°C) высокоскоростное (>300 нм/мин) осаждение пленок

далее


SAMCO RIE-1C

  • Лабораторная полуавтоматическая настольная установка реактивно-ионного травления  с открытой загрузкой для НИОКР и анализа отказов ИС
  • Назначение: вскрытие пассивирующих материалов, включая нитрид кремния, диоксид кремния, оксинитрид кремния; травление диэлектрика между слоями металла с контролем профиля; удаление остатков герметизирующих материалов на интегральных схемах для анализа отказов; вскрытие фоторезиста и полиимида; травление кремния, поликремния, тугоплавких металлов, силицидов металлов, нанесенного центрифугированием стекла и пр.
  • Рабочая камера: ø210мм х 62мм, кварц
  • Загрузка ручная, открытая

далее


SAMCO RIE-10NR

  • Недорогая, высокоэффективная полностью автоматическая установка реактивно-ионного травления  с открытой загрузкой для НИОКР и анализа отказов ИС
  • Назначение: вскрытие пассивирующих материалов, включая нитрид кремния, диоксид кремния, оксинитрид кремния; высокоселективное анизотропное травление всех типов кремнесодержащих пленок, полупроводниковых соединений и тугоплавких металлов, включая Si, SiO2, поликремний, Si3N4, GaAs и Mo; микромеханическое производство; удаление остатков герметизирующих материалов на интегральных схемах для анализа отказов; травление органических материалов 
  • Рабочая камера: алюминиевая, ø340мм; 2 смотровых окна ø40мм для визуального контроля
  • Загрузка ручная, открытая

далее


SAMCO RIE-200NL

  • Полностью автоматическая установка реактивно-ионного травления с загрузочным блоком для НИОКР и анализа отказов ИС
  • Назначение: высококачественное анизотропное травление кремниевых пленок для приборов ультравысокой степени интеграции; травление различных металлических пленок; полупроводниковых соединений (GaAs, GaN, InP, пр.), Si, SiO2, поликремния, SiNх ; производство волноводных устройств; микромеханическое производство; 
  • Рабочая камера: алюминиевая, ø440мм, с антикоррозионным покрытием; смотровое окно ø40мм для визуального контроля
  • Загрузочный шлюз: алюминиевый, (500х535х230)мм; одно смотровое окно ø204мм; крышка камеры открывается и закрывается автоматически

далее


SAMCO RIE-300NR

  • Высокоэффективная, высокоточная полностью автоматическая установка реактивно-ионного травления  с открытой загрузкой для НИОКР и анализа отказов ИС
  • Назначение: вскрытие пассивирующих материалов, включая нитрид кремния, диоксид кремния; высокоселективное анизотропное травление всех типов кремнесодержащих пленок, полупроводниковых соединений и тугоплавких металлов, включая Si, SiO2, поликремний, Si3N4, GaAs и Mo; микромеханическое производство; удаление материалов на интегральных схемах для анализа отказов; травление органических материалов 
  • Рабочая камера: алюминиевая
  • Загрузка ручная, открытая

далее


SAMCO RIE-200C

  • Полностью автоматическая установка реактивно-ионного травления с кассетным загрузчным блоком для серийного производства
  • Назначение: высококачественное анизотропное травление кремниевых пленок для приборов ультравысокой степени интеграции, а также всех прочих типов кремниевых пленок; травление пленок тугоплавких металлов; травление органических покрытий, озоление фоторезиста и формирование контактных окон; производство оптических волноводов; микромеханическое производство; производство различных типов датчиков; производство приборов на базе подложки кристалла
  • Рабочая камера: алюминиевая; смотровое окно ø40мм для визуального контроля
  • Загрузочный шлюз: одно или двухкассетный, алюминиевый

далее


SAMCO RIE-200LC

  • Полностью автоматическая установка реактивно-ионного травления с вакуумируемыми кассетным загрузчным блоком и системой перемещения для серийного производства. Конструкция позволяет применять в процессах агрессивные/токсичные газы (например, хлорсодержащие)
  • Назначение: высококачественное анизотропное травление кремниевых пленок (Si, поли-Si, SiO2, Si3N4, прочие); травление различных металлических пленок; травление полупроводниковых соединений (GaAs, GaN, InP и прочих); озоление фоторезиста и формирование контактных окон; производство волноводных устройств; микромеханическое производство
  • Загрузочный шлюз: кассетный, вакуумируемый
  • Перемещение пластин: вакуумный робот

далее


SAMCO RIE-10iP (ICP)

  • Полностью автоматическая установка травления индуктивно-связанной плазмой с открытой загрузкой для НИОКР и анализа отказов ИС
  • Назначение: анизотропное травление SiO2, Si3N4; травление органических материалов  и диэлектриков
  • Загрузка ручная, открытая
  • Подложки:  пластины до 4” или несколько образцов или приборов

далее


SAMCO RIE-101iPH (ICP)

  • Полностью автоматическая установка травления индуктивно-связанной плазмой с  загрузочным блоком для НИОКР и анализа отказов ИС
  • Назначение: анизотропное травление кремниевых пленок; травление металлических пленок, полупроводниковых соединений (GaAs, GaN, InP, пр.); производство волноводных устройств; высокоскоростное травление Al2O3, SiO2 
  • Рабочая камера: из нержавеющей стали, ø309,5мм; смотровое окно ø40мм для визуального контроля; 9 дополнительных отверстий (портов) для подключения аналитического оборудования
  • Загрузочная камера: алюминиевая, (451х308х146)мм

далее


SAMCO RIE-200iP (ICP)

  • Компактная автоматическая установка травления индуктивно-связанной плазмой с  загрузочным блоком для НИОКР и опытного производства, анализа отказов ИС
  • Назначение: высококачественное анизотропное травление всех видов кремниевых пленок для приборов ультравысокой степени интеграции; травление GaAs, GaN, InP и других полупроводниковых соединений; производство быстродействующих приборов; производство силовых приборов (монолитных СВЧ-ИС, транзисторов с высокой подвижностью электронов и пр.); производство ПАВ-фильтров; производство волноводных устройств; травление металлических пленок; травление органических покрытий; микромеханическое производство  
  • Рабочая камера: ø440мм из алюминия с антикоррозионным покрытием и контролируемой температурой
  • Загрузочная камера: алюминиевая, (520х440х205)мм с ручным открытием/закрытием камеры загрузки. Позволяет использовать хлорсодержащие реагенты

далее


SAMCO RIE-212IP (ICP)

  • Высокопроизводительная автоматическая установка травления индуктивно-связанной плазмой высокой для производства светодиодов
  • Назначение: травление мезаструктур  GaN;  травление четверных полупроводниковых соединений, например AlInGaP;  травление сапфира; структурирование поверхности  
  • Рабочая камера: ø440мм из алюминия
  • Загрузочная камера: алюминиевая, (520х440х205)мм с ручнам открытием/закрытием камеры загрузки.

далее


SAMCO RIE-400iP (ICP)

  • Автоматическая установка травления индуктивно-связанной плазмой с  загрузочным блоком для производства, анализа отказов ИС
  • Назначение: производство лазерных диодов; травление GaAs, GaN, InP; формирование полосы лазерных диодов; производство фотонно-кристаллических приборов; производство точечных квантовых приборов; высокоравномерное травление полупроводниковых и диэлектрических пленок; травление органических покрытий
  • Опертивное управление температурой стенок рабочей камеры и подложкодержателя
  • Загрузочная камера: алюминиевая, с ручнам открытием/закрытием камеры загрузки. Позволяет использовать хлорсодержащие реагенты

далее


SAMCO RIE-600iP (ICP)

  • Специализированная установка травления оксида и карбида кремния индуктивно-связанной высокоплотной плазмой с  загрузочным блоком для НИОКР и производства
  • Назначение: изготовление SiO2 шаблонов (высокоскоростное травление SiO2) и высокоскоростное травление SiC для производства мощных приборов на SiC; производство оптических устройств (оптических волноводов и микролинз); производство микроканалов;  производство различных датчиков 
  • Перемещение пластин: линейным вакуумным автоматическим манипулятором
  • Пластины:  до 150 мм

далее


SAMCO RIE-100iPC (ICP)

  • Высокопроизводительная автоматическая установка травления индуктивно-связанной плазмой фторсодержащих газов с атмосферной кассетной загрузкой для НИОКР, производства и анализа отказов ИС
  • Назначение: вскрытие пассивирующих материалов, включая Si3N4, SiO2, SiOxNy; озоление фоторезиста; анизотропное травление всех типов кремнесодержащих пленок, полупроводниковых соединений и тугоплавких металлов, включая Si, SiO2, поли-Si, Si3N4, GaAs и Mo; производство приборов на поверхностных аккустических волнах
  • Загрузочная камера: для одной или двух кассет
  • Перемещение пластин: атмосферным линейным автоматическим манипулятором с вакуумным захватом и устройством центрирования пластины

далее


SAMCO RIE-230iPC (ICP)

  • Автоматическая установка травления индуктивно-связанной плазмой с кассетной загрузкой для производства, анализа отказов ИС
  • Назначение: высокоскоростное глубокое травление SiO2 и полупроводниковых соединений – InP, GaN, AlGaAs, GaAs; щадящее травление GaN, GaAs, InP для производства электронных и светоизлучающих приборов; травление ферроэлектрических материалов для приборов памяти; высокоскоростное травление для производства МЭМС; травление органических соединений  
  • Вакуумируемая загрузочная камера. Позволяет использовать хлорсодержащие и фторсодержащие реагенты
  • Перемещение пластин: вакуумным автоматическим манипулятором

далее


SAMCO RIE-330iPC (ICP)

  • Автоматическая установка травления индуктивно-связанной плазмой с кассетной загрузкой для массовое производства
  • Назначение: анизотропное травление всех видов полупроводниковых, изолирующих и металлических пленок; массовое производство светодиодов; травление GaN; травление сапфира
  • Рабочая камера: (650х650)мм из алюминия с контролируемой температурой стенок и подложки
  • Загрузочная камера: алюминиевая, (720х720)мм. Позволяет использовать хлорсодержащие и фторсодержащие реагенты

далее


SAMCO RIE-600iPC (ICP)

  • Специализированная установка травления высокоплотной индуктивно-связанной плазмой с кассетной загрузкой для НИОКР и производства
  • Назначение: изготовление SiO2 шаблонов для (высокоскоростное травление SiO2) и высокоскоростное травления SiC для производства мощных приборов; производство оптических устройств (оптических волноводов и микролинз); производство микроканалов;  производство различных датчиков    
  • Рабочая камера: из алюминия
  • Загрузочная камера: алюминиевая, с вакуумным роботом-перегрузчиком

далее


SAMCO RIE-400iPB (ICP)

  • Автоматическая установка высокоскоростного глубокого травления кремния индуктивно-связанной плазмой с  загрузочным блоком для НИОКР
  • Назначение: производство МЭМС (акселерометров, гироскопов, актюаторов и пр.); производство головок струйных принтеров; создание переходных отверстий в кремнии при производстве 3D-интегрированных структур (травление отверстий в пластинах глубиной до 600 мкм); производство медицинских приборов (системы полного микроанализа и пр.); возможность проведения Бош-процессов 
  • Рабочая камера: из алюминия, внутренний ø320мм
  • Загрузочная камера: алюминиевая, (340х445х144)мм. Загрузка пластин ручная

далее


SAMCO RIE-800iPB (ICP)

  • Автоматическая установка высокоскоростного глубокого травления кремния индуктивно-связанной плазмой с  загрузочным блоком для НИОКР и пилотного производства
  • Назначение: производство МЭМС (акселерометров, гироскопов, актюаторов и пр.); создание переходных отверстий в кремнии при производстве 3D-интегрированных структур (травление отверстий в пластинах глубиной до 600 мкм); производство датчиков; возможность проведения Бош-процессов; резка кремниевых пластин на чипы; производство головок струйных принтеров; производство медицинских приборов (системы полного микроанализа и пр.) 
  • Рабочая камера: из алюминия, внутренний ø440мм
  • Загрузочная камера: алюминиевая, (340х445)мм . Загрузка пластин ручная

далее


SAMCO RIE-800iPBC(ICP)

  • Автоматическая установка высокоскоростного глубокого травления кремния индуктивно-связанной плазмой с  кассетной загрузкой для массового производства
  • Назначение: производство МЭМС (акселерометров, гироскопов, актюаторов и пр.); создание переходных отверстий в кремнии при производстве 3D-интегрированных структур (травление отверстий в пластинах глубиной до 600 мкм); производство датчиков; возможность проведения Бош-процессов; резка кремниевых пластин на чипы;
  • Рабочая камера: из алюминия, внутренний ø440мм
  • Вакуумируемая кассетная загрузочная камера. Загрузка пластин кассетная автоматическая

далее


SAMCO PC-300(RIE/PE)

  • Автоматическая настольная установка плазменной очистки (реативно-ионное/плазменное травление) с  ручной загрузкой для НИОКР и производства
  • Назначение: плазменная очистка и обработка поверхности стекла, металлов, полимеров, полупроводников, керамики и пр.; очистка поверхности пластиковых корпусов и выводных рамок; прецезионная очистка оптических компонентов и матриц; обработка поверхности органических пленок; озоление фоторезиста; удаление органических загрязнений; улучшение адгезии
  • Рабочая камера: из нержавеющей стали, (382x356x209) мм. Смотровое окошко ø66 мм. Ручное открытие/закрытие камеры
  • Пластины:  ø2” – до 18шт., ø4” – до 6шт. на одном лотке, максимум – 2 лотка

далее


SAMCO PC-1100(RIE/PE)

  • Автоматическая настольная установка плазменной очистки (реативно-ионное/плазменное травление) с  ручной загрузкой для НИОКР и производства
  • Назначение: очистка поверхности пластиковых корпусов, оснований жидкокристаллических дисплеев, многочиповых модулей и гибридных ИС;  прецезионная очистка оптических компонентов; обработка поверхности текстильных и полимерных материалов; озоление фоторезиста; удаление пасты для толстопленочных микросхем; удаление органических загрязнений
  • Рабочая камера: из нержавеющей стали, (459x615x459) мм. Смотровое окошко ø66 мм в алюминиевой двери камеры с ручным открытием/закрытием
  • Пластины:  от ø2” до ø 300 мм

далее


SAMCO PC-5000(PE)

  • Автоматическая установка прямой плазменной очистки с большой рабочей камерой для НИОКР и производства
  • Назначение: очистка крупноразмерных подложек или партий небольших изделий; очистка поверхности пластиковых корпусов и выводных рамок;  очистка поверхности стеклянных подложек; прецезионная очистка оптических компонентов и матриц; озоление фоторезиста; очистка поверхности органических пленок; удаление органических загрязнений
  • Подложки: до (80х250) мм или (500х500) мм
  • Ручная или кассетная загрузка

далее

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.