PlasmaPro 800 plus

  • Автоматизированная установка
  • Варианты исполнения: ПХО (PECVD), ПХТ (PE), РИТ/ ПХТ (RIE/PE)
  • Подложки: до 300 мм
  • Для проведения исследовательских работ и мелкосерийного производства
  • Температура процесса: +10 — +80 С / +0-+400 С в зависимости от варианта
  • Линий подачи газа с РРГ: до 8 (12)
  • Возбуждение плазмы: ВЧ (НЧ – дополнительная опция для ПХО)
  • Электроэнергия: 400 В, 25 A или 208 В, 32 A; 3 фазы с N+E; 50/60 Гц
  • Сухой очищенный сжатый воздух: 4 ÷ 6 бар, расход суммарный до 140 л/мин
  • Подача газов для легирования: нет
  • Плазменная очистка камеры: есть
  • Вес: от 275 кг до 330 кг в зависимости от варианта исполнения

к списку