SAMCO RIE-100iPC (ICP)

  • Высокопроизводительная автоматическая установка травления индуктивно-связанной плазмой фторсодержащих газов с атмосферной кассетной загрузкой для НИОКР, производства и анализа отказов ИС
  • Назначение: вскрытие пассивирующих материалов, включая Si3N4, SiO2, SiOxNy; озоление фоторезиста; анизотропное травление всех типов кремнесодержащих пленок, полупроводниковых соединений и тугоплавких металлов, включая Si, SiO2, поли-Si, Si3N4, GaAs и Mo; производство приборов на поверхностных аккустических волнах
  • Загрузочная камера: для одной или двух кассет
  • Перемещение пластин: атмосферным линейным автоматическим манипулятором с вакуумным захватом и устройством центрирования пластины
  • Пластины: до ø8” (100/200мм)
  • Электроды: ИСП –электрод (верхний) — Tornado Coil Electrode; электростатический держатель пластины с гелиевым охлаждением обратной стороны для управления температурой пластины
  • Температура подложкодержателя: (-10÷250)°C   
  • Источник ИСП: 1000Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления. Источника смещения – 300Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления
  • Газовая система: газовые линии с РРГ, продувочный азот 
  • Применяемые газы: CF4, CHF3, SF6, O2, Ar, N2
  • Вакуумная система: турбомолекулярный насос и роторный форвакуумный насос
  • Система управления: компьютеризированная сенсорная панель обеспечивает контроль за параметрами процесса, ввод и хранение технологических программ.  Полная автоматизация процесса
  • Габариты: основная установка — (1140x1690x1970) мм
  • Окончание процесса: по оптическому интерферометру
  • Опционно: до 8 газовых линий

к списку