KLOE Dilase 650 LDI

  • Система лазерной литографии высокого разрешения с технологией «прямого письма»
  • Предназначена для быстрого прототипирования и безмаскового производства, включает два лазера и обеспечивает обработку пластин размерами до 150 мм.
  • Линейная скорость письма   >500 мм/с
  • Разрешение перемещения рабочего столика               100 нм
  • Повторяемость         100 нм
  • Область записи         1 до 150мм
  • Толщина подложки  250 мкм до 10 мм
  • Размер лазерного луча 0,5 мкм до 100 мкм
  • Форм-фактор: минимум 10
  • Точность стандартного послойного совмещения 500 нм
  • 3 режима письма: векторный, сканирующий и их комбинация
  • Доступные лазерные источники: 375 и/или 405 нм
  • Габаритные размеры: 925х925х1600 мм

к списку