KLOE

KLOE Dilase 250 LDI

  • Система лазерной литографии высокого разрешения с технологией «прямого письма»
  • Предназначена для быстрого прототипирования и безмаскового производства. Может работать как в векторном, так и сканирующем режимах записи, и гарантирует устойчивость траектории в пределах диапазона отклонения max 100 нм.
  • Линейная скорость письма   >100 мм/с
  • Разрешение перемещения рабочего столика 100 нм

далее


KLOE Dilase 650 LDI

  • Система лазерной литографии высокого разрешения с технологией «прямого письма»
  • Предназначена для быстрого прототипирования и безмаскового производства, включает два лазера и обеспечивает обработку пластин размерами до 150 мм.
  • Линейная скорость письма   >500 мм/с
  • Разрешение перемещения рабочего столика               100 нм

далее


KLOE Dilase 750 LDI

  • Система лазерной литографии высокого разрешения с технологией «прямого письма»
  • Предназначена для быстрого прототипирования и безмаскового производства, может включать до 4 УФ лазерных источников с различными длинами волн и до 3 разных размеров лазерного пятна. Размер обрабатываемых подложек до 400х400 мм и пластины диаметром до 300 мм.
  • Линейная скорость письма   >35 мм/с
  • Разрешение перемещения рабочего столика               100 нм

далее


KLOE UV-KUB 1

  • Установка экспонирования
  • Предназначена для экспонирования с помощью УФ-светодиода без нагрева.
  • Разрешение – 2 мкм
  • Доступные длины волн 365 нм, 405 нм

далее


KLOE UV-KUB 2

  • Установка экспонирования и маскирования
  • Предназначена для экспонирования с помощью УФ-светодиода с разрешением менее 2мкм, оснащена оптической головкой на базе светодиода, с коллимированным и гомогенным излучением.
  • Разрешение – 2 мкм
  • Доступные длины волн 365 нм, 405 нм

далее


KLOE UV-KUB 3

  • Установка экспонирования и совмещения
  • Предназначена для экспонирования и совмещения с помощью УФ-светодиода с разрешением менее 2мкм, оборудована УФ-светодиодным источником излучения, позволяет совмещать маску размером 5” c пластиной размером до 100 мм в кубическом объеме с длиной одной стороны 47,5 см.
  • Разрешение – 2 мкм
  • Допустимый размер фотошаблона Ø 2″ или Ø 5″

далее


KLOE UV-KUB 6

  • Установка экспонирования и маскирования
  • Предназначена для экспонирования и маскирования с помощью УФ-светодиода с разрешением менее 2мкм, оснащена оптической головкой на базе светодиода, с коллимированным и гомогенным излучением.
  • Разрешение – 2 мкм
  • Доступные длины волн 365 нм

далее


KLOE UV-KUB 9

  • Установка экспонирования высокой мощности
  • Предназначена для экспонирования с помощью УФ-светодиода подложек диаметром до 8”
  • Доступные длины волн 365 нм
  • Мощность излучения на поверхности пластины диаметром 4 дюйма 145 мВт/см2

далее

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.