VTC-2RF

  • Компактная установка высокочастотного плазменного магнетронного напыления с 2“ оголовком распылителя для НИОКР
  • Назначение: магнетронное напыление неметаллических покрытий, преимущественно — оксидов
  • Подложки: пластины диаметром до 2″
  • Один вращающийся со скоростью от 1 до 10 об/мин 50-мм нагреваемый керамический держатель с оболочкой из нержавеющей стали
  • Нагреватель держателя до температуры 400°С с точностью поддержания температуры ±1°С
  • Источник плазмы: RF-генератор 13,5 МГц, 300 Вт с функцией автоматической калибровки подключен к 2“ оголовку распылителя.
  • 2“ (опционно — 1″) оголовок магнетронного распылителя с системой водяного охлаждения (рециркуляция воды – 16 л/мин, чилер управляется цифровым контроллером) и с управляемым вручную затвором для защиты мишени
  • Процессная камера из высокочистого кварца размерами: ø 160 мм х 250 мм, уплотняющий фланец из алюминия с высокотемпературным силиконовым уплотнительным кольцом (опционно — процессная камера из нержавеющей стали)
  • Сетчатый экран из нержавеющей стали для дополнительной защиты от ВЧ-излучения
  • Установка укомплектована водяным чилером
  • Установка укомплектована специальным фланцем для присоединения вакуумного насоса и двухступенчатым вакуумным механическим насосом, обеспечивающим вакуум менее 1 х 10-2 торр; опционно может быть поставлен компактный турбовакуумный насос, обеспечивающий вакуум менее 1 х 10-5 торр
  • Чистота применяемого аргона – лучше 5N
  • Опционно: прецизионный измеритель толщины пленки
  • Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • Мишени: в состав установки входит 1 мишень из SiO2 ø2″ х 1/4«. Опционно: мишени из высокочистых Al2O3, ZnO, CrTiO3 и прочие
  • Электропитание: 220В, 50/60Гц, 1ф, 800Вт (включая насос)
  • Габариты: 650 x 650 x 1630 мм
  • Вес: 70 кг

к списку