Kokusai Electric VERTRON Revolution 200 mm

  • Автоматическая высокопроизводительная установка для проведения термических процессов при групповой обработке в промышленном производстве чипов, пластин, МЭМС, светодиодов, источников питания, фотоэлементов
  • Назначение: химическое осаждение из газовой фазы при пониженном давлении, оксидирование, отжиг (высокотемпературный / низкотемпературный), диффузия, сухое / влажное оксидирование, осаждение легированного / нелегированного поликремния, нитридирование
  • Пластины: ø150мм, ø200мм.
  • Гибкие подложки: до ø150мм
  • Применяемые газы: H2, Ar, N2, POCl3 и прочие.
  • Применяемые химикаты: ТЭОС и прочие
  • Загрузка: от 100 до 175 пластин (опционно)
  • Контроль концентрации кислорода и влаги в процессной среде (опционно)
  • Возможность использования SMIF-контейнеров (опционно)
  • Возможность модернизации

к списку