ЭМ-5634

  • CCD-Степпер
  • Предназначен для выполнения фотолитографии в производстве интегральных микросхем с большой площадью кристалла.
  • Диаметр пластин 100мм,150мм
  • Размер фотошаблона 152×152 (6″х6″) мм
  • Фотолитографическое разрешение (L/S) 1мкм
  • Глубина резкости 6 мкм
  • Рабочее поле 50×50 мм,100×35 мм
  • Масштаб проекционного переноса        1:1
  • Диапазон автоматического изменения масштаба ±20 ррm
  • Дисторсия объектива ±0.3мкм
  • Длина волны 365 (i-линия) нм
  • Мощность ртутной лампы 5 кВт
  • Мощности экспонирующего излучения 140 мВ/см2
  • Неравномерность освещения, %            ±3%
  • Погрешность отработки дозы экспозиции ±1.5%
  • Погрешности совмещения слоев (3σ) ±0.2 мкм
  • Потребляемая мощность 6.5 кВт

к списку