ULVAC CS-L 150мм / 200мм (PVD)

• Компактная установка физического осаждения из газовой фазы (напыления) для НИОКР
• Назначение: осаждение легированных алюминием тонких пленок ZnO (AZO), легированных галлием тонких пленок ZnO (GZO) для солнечных элементов и оптоэлектронных устройств; пленок оксидов и металлов для МЭМС и других применений
• Подложки: ø150мм (опционно – ø200мм) – кремниевые, кварцевые и т.д.
• Процессные камеры: 1
• Загрузка: кассетная, атмосферная
• Транспортировочная система: атмосферный манипулятор
• Источники распыления: 3” магнетронные катоды – до 3-х; мощность источника постоянного тока – 0,5 кВт; ВЧ-источник мощностью 0,3 кВт
• Система нагрева: до 300°С
• Возможность напыления с вращением подложки
• Газовая система: 3 газовые линии с РРГ
• Применяемые газы: Ar, N₂, O₂
• Очищенный сжатый воздух
• Охлаждающая вода
• Система управления: компьютерная, с сенсорным монитором
• Вакуумная система: турбомолекулярный и форвакуумный насосы
• Опционно: сухой форвакуумный насос, электрод под подложку, прочие

к списку