ULVAC Technologies

ULVAC Enviro-1Xa (RIE)

  • Автоматическая однокамерная установка плазмохимического высокоскоростного удаления фоторезиста потоком нисходящей плазмы/реактивно-ионным травлением с  кассетной загрузкой для НИОКР
  • Назначение: вскрытие толстого слоя фоторезиста, удаление полимеров и остатков обработки, удаление непроявленного фоторезиста, производство МЭМС, очистка кромок и обратной стороны
  • Производительность: 70 пластин/ч
  • Двухкассетная система загрузки

далее


ULVAC Enviro-1Xa 2C (RIE)

  • Автоматическая двухкамерая установка плазмохимического высокоскоростного удаления фоторезиста потоком нисходящей плазмы/реактивно-ионным травлением с  кассетной загрузкой для НИОКР и производства
  • Назначение: удаление непроявленного фоторезиста, вскрытие толстого слоя фоторезиста, удаление полимеров и остатков обработки, производство МЭМС, очистка кромок и обратной стороны
  • Производительность: 115 пластин/ч
  • Двухкассетная система загрузки

далее


ULVAC Enviro Optima (RIE)

  • Автоматическая трехкамерая высокопроизводительная установка плазмохимического высокоскоростного удаления фоторезиста и очистки потоком нисходящей плазмы/реактивно-ионным травлением с кассетной загрузкой для массового производства
  • Назначение: вскрытие толстого слоя фоторезиста, удаление полимеров и остатков обработки, удаление непроявленного фоторезиста, производство МЭМС, очистка кромок и обратной стороны
  • Производительность: 180 пластин/ч
  • Загрузка пластин с помощью робота

далее


ULVAC NE-550EXa (ICP/RIE)

  • Автоматическая однокамерная установка плазмохимического травления высокоплотной плазмой низкого давления /индуктивно-связанной плазмой с  ручной загрузкой для НИОКР
  • Назначение: травление полупроводниковых соединений А3В5 (селективное травление GaAs, AlGaAs, InGaAs, InGaP, InP; неселективное травление – GaAs, AlGaAs, AlGaInP, InAlAs, InP, GaN, AlGaN, InGaN, AlN); высокоскоростное или щадящее травление диэлектрических слоев (SiO2, SiN, Low-K материалов; сквозное травление GaAs, InP, SiC); травление органических соединений (полиимида, бензоциклобутен); травление металлов и керамики (W, WSi, TiW, Mo, PZT, STO, BST, SBT, Ir, IrO2, Au, Pt, Ti, TiN, Ta); а также травление ITO (оксид индия-олова), сапфира, кварца, стекла, Si, SiC, C, алмазоподобного углеродного покрытия, Al, Cr, Mo
  • Ручная загрузка
  • Процессная камера с оперативным управлением температурой стенок камеры

далее


ULVAC NLD-570 (ICP/NLD)

  • Автоматическая однокамерная установка плазмохимического травления высокоплотной плазмой низкого давления /индуктивно-связанной плазмой с  ручной загрузкой для НИОКР
  • Назначение: производство оптических приборов (световодов, усилителей, оптических переключателей, микролинз, оптических МЭМС), фотоэлектроники, систем полного микроанализа, микроструйной техники; глубокое травление SiO2; высокоскоростное травление кварца (>1мкм/мин), боросиликатного стекла (>0,8мкм/мин); травление LiNbO3, TiO2
  • Ручная загрузка
  • Процессная камера ø300мм

далее

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.