«ИЗОВАК»

Atis 500

  • Установка вакуумного магнетронного распыления циклического действия для мелкосерийного производства
  • Назначение: для группового двустороннего напыления на кварцевые, стеклянные, кремниевые и прочие подложки металлических покрытий с высокой равномерностью (подслоя, основного металлического слоя и т.д.), например, для структуры Сr-Cu-Cr, с предварительной ионно-лучевой очисткой
  • Подложки: 60х48мм
  • Загрузка ручная через откидывающуюся верхнюю крышку рабочей камеры: до 23шт
  • Держатель подложек: 24 позиции (1 – для отпыла магнетронов)
  • Рабочая камера: ø500мм, высота 330мм
  • Ионные источники линейного типа апертурой 140 мм для очистки подложек в целях улучшения адгезии: 2 шт
  • Магнетроны постоянного тока (DC): 4 шт
  • Мишени: ø150мм, толщина (4÷6) мм
  • Алгоритм обработки: пошаговый — последовательность обработки задается оператором (например, сначала на все подложки подслой, потом основной слой, либо для каждой подложки подслой и сразу нанесение основного слоя)
  • Производительность при двустороннем напылении: 120 подложек/смену
  • Неравномерность покрытий: ±2,5%
  • Замкнутая система охлаждения дистиллированной водой
  • Рабочие газы: Ar (ГОСТ 10157-79 99,99%, (0,1±0,01)МПа, ≤0,2 л/мин), O2 (ГОСТ 5583-78 99,7%, (0,1±0,01)МПа, ≤0,2 л/мин), осушенный сжатый воздух (6…8 кг/см2)
  • Многофункциональный контроль: кварцевый контроль, контроль по сопротивлению или контроль по времени
  • Вакуумная система: криогенный / турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
  • Предельное остаточное давление в рабочей камере: 5х10-4Па
  • Автоматизированный процесс напыления по заранее составленному рецепту либо ручное управление 
  • Электроэнергия: 380/220±10%В, 50±2%Гц, 10 кВт
  • Габаритные размеры: 3800х3400х2000мм
  • Масса: 1000кг

Atis 500-V

  • Установка вакуумного магнетронного распыления с увеличенной загрузкой для серийного производства
  • Назначение: для группового одностороннего напыления на поликоровые подложки металлических покрытий, например, тантала, с предварительной ионно-лучевой очисткой очисткой и возможностью нагрева обрабатываемых подложек до 400°С
  • Подложки: 48х60х1,0мм; 48х60х0,5мм; 48х60х0,25мм; 30х24х0,3мм; 30х24х0,2мм
  • Загрузка ручная на карусель-подложкодержатель: до 65шт 48х60мм
  • Рабочая камера: ø620мм, высота 550мм
  • Ионный источник для очистки подложек в целях улучшения адгезии: 1 шт
  • Магнетроны постоянного тока (DC): 5 шт
  • Максимальная температура ИК нагрева подложек: 400°С
  • Разброс температур по карусели: не более ± 2°С
  • Точность установки температуры: ± 2°С
  • Толщина наносимого покрытия (тантал): до 0,6мкм
  • Скорость нанесения покрытия (тантал):  ≤0,005мкм/мин
  • Разброс толщины наносимого покрытия: не более ±2%
  • Независимая рециркуляционная система охлаждения дистиллированной водой
  • Рабочие газы: Ar (ГОСТ 10157-79 99,99%, (0,1±0,01)МПа, ≤0,2 л/мин), O2 (ГОСТ 5583-78 99,7%, (0,1±0,01)МПа, ≤0,2 л/мин), осушенный сжатый воздух (6…8 кг/см2)
  • Методы контроля толщины покрытия: по кварцевому датчику; по резистивному датчику или контроль по времени
  • Вакуумная система: криогенный / турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
  • Предельное остаточное давление в рабочей камере: 5х10-4Па
  • Время откачки до давления 2×10-4Па: ≤30мин
  • Автоматизированный процесс напыления по заранее составленному рецепту либо ручное управление 
  • Электроэнергия: 380/220±10%В, 50±2%Гц
  • Габаритные размеры: 2900х2300х2400мм
  • Масса: 1700кг

Versus 74

  • Установка вакуумного напыления методом термического испарения для серийного производства
  • Назначение: для группового одностороннего либо двухстороннего напыления на поликоровые, ситалловые и прочие подложки покрытий с предварительной ионно-лучевой очисткой очисткой и возможностью нагрева обрабатываемых подложек до 300°С
  • Подложки: 48х60х1,0мм; 48х60х0,5мм; 48х60х0,25мм; 30х24х0,3мм; 30х24х0,2мм
  • Загрузка ручная на карусель-подложкодержатель: до 40шт 48х60мм
  • Регулируемая скорость вращения карусели: (0÷30)об/мин
  • Ионный источник для очистки подложек в целях улучшения адгезии: 1 шт
  • Резистивный испаритель мощностью 2кВт: 1 шт
  • Электронный испаритель с кольцевым катодом мощностью 2,5кВт: 2 шт
  • Максимальная температура нагрева подложек: 300°С
  • Разброс температур по карусели: не более ± 5°С
  • Точность установки температуры: ± 5°С
  • Разброс толщины запыленной пленки по карусели: не более ±5%
  • Независимая рециркуляционная система охлаждения
  • Методы контроля толщины покрытия: по кварцевому датчику; по резистивному образцу
  • Вакуумная система: турбомолекулярный и форвакуумный насосы
  • Предельное остаточное давление в рабочей камере: 8х10-5Па
  • Время откачки до давления 2×10-4Па: ≤30мин
  • Опционально: установка магнетронного распыления

Elato 350

  • Установка вакуумного напыления периодического действия для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: для группового нанесения на различные типы подложек металлических покрытий, например, для напыления драгоценных металлов, методом электронно-лучевого или термического испарения,  магнетронного распыления с предварительной ионно-лучевой очисткой
  • Загрузка ручная на карусель-подложкодержатель планетарного или купольного типа
  • Регулируемая скорость вращения карусели: (0÷30)об/мин
  • Рабочая камера D-образной формы: ø350мм
  • Технологические устройства монтируются на фланце дна камеры
  • Ионный источник для очистки подложек в целях улучшения адгезии: 1 шт
  • Мощность источника ионного ассистирования: ≤1кВт
  • Электронно-лучевой источник: 1шт
  • Мощность ЭЛИ: ≤10кВт
  • Магнетрон: 1 шт
  • Резистивный испаритель: 1шт
  • На верхнем фланце камеры: механизм вращения подложкодержателя, системы нагрева и кварцевого контроля
  • Нагреватели: ИК, ТЭН
  • Контролируемый диапазон температуры прогрева рабочего объема камеры в зоне подколпачной арматуры: (0÷750)°С
  • Комплект внутрикамерных съемных листовых экранов для защиты от запыления
  • Электронно-лучевые источники с заслонками и защитнымкуполом
  • Неравномерность покрытий по толщине: не более ±2%
  • Независимая рециркуляционная система охлаждения дистиллированной водой
  • Рабочие газы: Ar (ГОСТ 10157-79 99,99%, (0,1±0,01)МПа, ≤0,2 л/мин), O2 (ГОСТ 5583-78 99,7%, (0,1±0,01)МПа, ≤0,2 л/мин), осушенный сжатый воздух (6…8 кг/см2)
  • Система кварцевого контроля: для измерения физической толщины наносимых пленок во время распыления, автоматического управления и поддержания заданной скорости нанесения материала
  • Вакуумная система: криогенный / турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
  • Предельное остаточное давление в рабочей камере: 1х10-4Па
  • Время откачки (без прогрева) до давления 8×10-4Па: ≤15мин
  • Натекание в камеру в течение 10 часов: ≤1х102лПа/с     
  • Контролируемый диапазон рабочего давления в камере при напуске технологического газа: (1х10-2÷4х10-2)Па     
  • Автоматизированный процесс напыления по заранее составленному рецепту либо ручное управление (ПК с сенсорной панелью управления, два пульта управления электронно-лучевыми испарителями)
  • Электроэнергия: 380/220±10%В, 50±2%Гц, ≤35кВт
  • Габаритные размеры: 1500х1500х2000мм
  • Масса: 1800кг
  • Опционально: загрузочный шлюз; система оптического контроля; система контроля по времени

Elato 600

  • Установка вакуумного напыления для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: для группового нанесения на различные типы подложек металлических покрытий, например, для напыления драгоценных металлов, методом электронно-лучевого или термического испарения,  магнетронного распыления с предварительной ионно-лучевой очисткой
  • Загрузка ручная на карусель-подложкодержатель планетарного типа
  • Рабочая камера D-образной формы: ø600мм
  • Ионный источник для очистки подложек в целях улучшения адгезии (опция): 1 шт
  • Электронно-лучевой источник: 1шт
  • Резистивный испаритель: 1шт
  • Нагреватели: ИК, ТЭН
  • Максимальная температура нагрева подложек: 400°С
  • Независимая рециркуляционная система охлаждения дистиллированной водой
  • Рабочие газы: Ar (ГОСТ 10157-79 99,99%, (0,1±0,01)МПа, ≤0,2 л/мин), O2 (ГОСТ 5583-78 99,7%, (0,1±0,01)МПа, ≤0,2 л/мин), осушенный сжатый воздух (6…8 кг/см2)
  • Система кварцевого контроля: для измерения физической толщины наносимых пленок во время распыления, автоматического управления и поддержания заданной скорости нанесения материала
  • Вакуумная система: турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
  • Предельное остаточное давление в рабочей камере: 1х10-5Па
  • Автоматизированный процесс напыления по заранее составленному рецепту либо ручное управление
  • Электроэнергия: 380/220±10%В, 50±2%Гц
  • Габаритные размеры: 1573х2000х1996мм
  • Масса: 1200кг
  • Опционально: загрузочный шлюз; система оптического контроля; система контроля по времени; магнетрон

Elato-Ш

  • Универсальная компактная установка вакуумного напыления для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: для группового нанесения на различные типы подложек покрытий
  • Состав: моноблок — пост вакуумный (камера вакуумная технологическая с внутрикамерной оснасткой, затвор высоковакуумный, камера шлюзовая  с установленной на ней системой вращения подложек), установленный на металлическом каркасе, шкаф электротехнический
  • Загрузка ручная на карусель-подложкодержатель
  • Объем камеры вакуумной технологической: 0,065м3
  • Резистивный испаритель: 1шт
  • Диапазон регулировки расстояния от испарителя до образца: (250÷350)мм
  • Нагреватели
  • Температура прогрева шлюзовой камеры:  ≤400°С
  • Точность поддержания температуры на подложке: ±10°С
  • Неравномерность по толщине напыляемого слоя на подложку ø76мм (при регулировке расстояния от испарителя до образца): не более ±(1,5÷5)%
  • Вакуумная система: турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
  • Предельное остаточное давление в в чистой рабочей камере без оснастки: 5х10-4Па
  • Время откачки до давления 5х10-4Па: ≤30мин
  • Автоматизированный процесс напыления по заранее составленному рецепту либо ручное управление
  • Электроэнергия: 380/220±10%В, 50±2%Гц, ≤30кВт
  • Габаритные размеры: 2350х2090х2400мм
  • Масса: 1200кг