VTC-16-D

  • Компактная плазменная настольная установка магнетронного напыления покрытий постоянным током с золотой мишенью для нанесения покрытий благородных металлов
  • Назначение: магнетронное напыление металлических покрытий (Au, Pt, Ag); напыление проводящих золотых слоев на образцах для сканирующей электронной микроскопии
  • Регулируемый по высоте подложкодержатель
  • Напряжение на источнике постоянного тока системы напыления — 500В; сила тока регулируется от 0 до 50 мА (цифровой миллиамперметр); время напыления регулируется от 1 до 120 с
  • Процессная камера из кварца размерами: ø167 мм х 150мм
  • Подложкодержатель ø2” с регулируемой высотой от 30 до 80 мм между образцом и мишенью
  • 2″ источник магнетронного напыления с управляемым вручную затвором для защиты мишени
  • Предельный уровень вакуума в камере: 1 Па. Установка укомплектована цифровым вакуумметром и специальным фланцем для присоединения вакуумного насоса.
  • Опционно: двухступенчатый вакуумный центробежный лопастной насос производительностью 8/9,6 м3/ч (220В, 50/60Гц, 1ф, 0,4/0,37кВт) либо компактный турбовакуумный насос
  • Наличие соединения типа Swagelok ¼” для подключения инертного газа из баллона, вентиль на лицевой панели для корректировки расхода газа
  • Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • Мишени: 1 мишень из золота (4N) ø2”(50 мм) х 0,12 мм; опционно – мишень из платины (4N) ø50 мм х 0,12 мм, мишень из серебра (4N) ø50 мм х 0,5 мм
  • Электропитание: 220В, 50/60Гц, 1ф, 200Вт (1000В – с учетом вакуумного насоса)
  • Габариты: установки — 460 x 330 x 520 мм,  упаковочные полные — 45″ x 45″ x 40″
  • Вес: нетто- 20 кг, брутто – 36,3 кг

к списку