DNS FS-821L Установка для химического травления, отмывки и сушки пластин

  • Установка химического травления, отмывки и сушки пластин для производственных процессов в полупроводниковой промышленности, производстве SiC / Si устройств питания, MEMS, LED, датчиков TSV и BSI…
  • Автоматическая система жидкостного химического травления и отмывки, с широким набором функций
  • Диаметр пластин: 200 мм
  • Установка позволяет проводить химические процессы травления и отмывки в одной ванне, позволяет проводить процессы при высокой температуре и с высокой концентрацией химических веществ, с использованием технологии циркуляционной химической очистки
  • Система может быть адаптирована для широкого спектра процессов очистки, т.к. могут быть использованы в одной ванне до пяти видов химических веществ
  • Объем ванн сведен к минимуму, что позволяет использовать минимум химических веществ и деионизованной воды
  • Образование оксидных пленок сведено к минимуму, т.к. пластины никогда не вступают в контакт с атмосферой во время процесса очистки
  • Сушка при низком давлении полностью исключающая образование водяных следов
  • Графический контроллер поддерживает широкий спектр приложений
  • Встроенная система безопасности
  • Роботизированный транспорт, роботизированный кварцевый подъемник в ванне
  • Установка оборудована генератором газообразного озона и водонагревателями
  • Энергоносители: 380 В, 61 кВт, азот, кислород, сжатый воздух, вакуум, деионизованная вода,…
  • Размеры (Д х Ш х В): 2790 мм х 4100 мм х 2558 мм
  • Вес: 4000 кг

к списку