MTI VTC-3RF (PVD)

  • Компактная установка высокочастотного плазменного магнетронного напыления с тремя 1“ оголовками распылителя для магнетронного напыления неметаллических покрытий, преимущественно — оксидов
  • Подложки: пластины диаметром до 2″. Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • Один вращающийся со скоростью от 1 до 10 об/мин 50-мм нагреваемый керамический держатель с оболочкой из нержавеющей стали; угловой диапазон напыления: 0÷25°
  • Нагреватель держателя до температуры 600°С (не более 5 минут) или 500°С (не более 2 часов) с точностью поддержания температуры ±1°С
  • Источники плазмы: RF-генератор 13,5 МГц, 100 Вт (опционно – 300 Вт) с ручной корректировкой нагрузки; DC-источник для возможности напыления металлических слоев. Возможно комбинированное применение источников: 3 DC, 1 RF / 2 DC, 2 RF / 1 DC
  • Поворотный переключатель может активировать единовременно один оголовок распыления. Переключение оголовков может производиться во время процесса
  • Три 1″ оголовка магнетронного распылителя с чилером и системой водяного охлаждения (рециркуляция воды – 10 л/мин, чилер управляется цифровым контроллером) и с управляемым вручную затвором для защиты мишени
  • Подложкодержатель ø 2″ с регулируемым расстоянием от 50 до 80 мм между подложкой и мишенью
  • Процессная вакуумная камера из высокочистого кварца размерами: ø 256 мм х 276 мм, уплотняющий фланец из алюминия с высокотемпературным силиконовым уплотнительным кольцом
  • Сетчатый экран из нержавеющей стали для дополнительной защиты от ВЧ-излучения
  • Установка укомплектована специальным фланцем для присоединения вакуумного насоса и двухступенчатым вакуумным механическим насосом, обеспечивающим вакуум менее 1 х 10-2 торр; опционно может быть поставлен компактный турбовакуумный насос, обеспечивающий вакуум менее 1 х 10-5 торр (с использованием нагрева для обезгаживания)
  • Опционно: двухступенчатый регулятор давления на газовый баллон с аргоном чистотой более 5N; прецизионный измеритель толщины пленки, температурный контроллер, узел управления смешиванием N2 или O2
  • Мишени: в состав установки входят 1 мишень из Cu ø1″х1/8» и 1 мишень из Al2O3 ø1″х1/8«.
  • Опционно: мишени из высокочистых оксидов, меди и прочие
  • Электропитание: 220В, 50/60Гц, 1ф, 1000Вт (включая насос и чилер)
  • Габариты: 540 x 540 x 1000 мм
  • Вес: 60 кг

к списку