Centrotherm CLV 200

  • Мелкосерийная вертикальная для печь для НИОКР и производства (диффузия, отжиг, оксидирование; ХОГФ НД; ПА ХОГФ)
  • Загрузка: до 50 пластин  Ø100-150мм, до 25 — Ø200мм
  • Температура процесса — до 1100°C, 3 или 5 зон нагрева
  • Применяемые газы: H2, Ar, O2, N2O, N2, SiH4, NH3, B2H6, PH3, SiH2Cl2
  • Автоматизированная кассетная загрузка
  • Опции: Nзагрузочный шлюз, роботизированная загрузка

к списку