Heidelberg Instruments Mikrotechnik

Немецкая компания Heidelberg Instruments GmbH основана в 1984 году исследователями из Гейдельбергского университета, Европейской лаборатории молекулярной биологии (EMBL) и других институтов, специализирующихся на различных областях, таких как биомедицинская оптика, конфокальная микроскопия, а также моделирование и проверка пластин. На сегодняшний день компания является лидером в разработке и производстве систем безмасковой лазерной литографии для таких областей производства микроэлектронных устройств, как МЭМС, плоские телевизионные панели, устройства с интегрированными оптическими структурами и т.д. Такие системы позволяют создавать двух- и трех-мерные топологии микроструктур на кремнии, стекле, различных пленках и других плоских образцах.


Heidelberg µPG 101

  • Настольный лазерный генератор изображения для НИОКР
  • Диодный лазер 405 нм, 120 мВт или УФ-диодный лазер 375 нм, 70 мВт
  • Для тонких и стандартных резистов или для УФ-резистов
  • Сменные пишущие линзы по выбору с минимальным размером элемента 0,6 мкм; 1 мкм; 2,5 мкм; 5 мкм

далее


Heidelberg DWL 66FS

  • Установка лазерной литографии для НИОКР
  • Гелий-кадмиевый лазер на парах металлов 442 нм, 100 мВт или диодный лазер 405 – 410 нм, 300 мВт
  • Максимальный размер подложки до 225 х 225 мм2
  • Толщина подложек до 6 мм

далее


Heidelberg DWL 66XL+

  • Установка лазерной литографии для НИОКР
  • Диодный лазер 405 нм, 300 мВт или УФ-диодный лазер 375 нм, 70 мВт
  • Для тонких и стандартных резистов или для УФ-резистов
  • Максимальный размер подложки до 430 х 430 мм2

далее


Heidelberg DWL 66+

  • Установка формирования изображения высокого разрешения для НИОКР
  • Диодный лазер 405 нм, до 300 мВт или УФ-диодный лазер 375 нм, 70 мВт
  • Для тонких и стандартных резистов или для УФ-резистов
  • Максимальный размер подложки до 225 х 225 мм2

далее


Heidelberg DWL 2000

  • Быстрая и гибкая установа лазерной литографии
  • Диодный лазер 405 нм, от  100 мВт или Газовый криптон-ионный лазер 413 нм, 300 мВт или УФ-диодный лазер 375 нм, 18 мВт
  • Для тонких и стандартных резистов или для УФ-резистов
  • Максимальный размер подложки до 225 х 225 мм2

далее


Heidelberg DWL 4000

  • Лазерный генератор изображений для фотошаблонов c высокой разрешающей способностью
  • Диодный лазер 405 нм, от 100 мВт или Газовый криптон-ионный лазер 413 нм, 300 мВт или УФ-диодный лазер 375 нм, 18 мВт
  • Для тонких и стандартных резистов или для УФ-резистов
  • Максимальный размер подложки до 425 х 425 мм2

далее


Heidelberg DWL 8000

  • Установка двумерной и трехмерной экспозиции с большой зоной 
  • Максимальный размер подложки до 800 х 800 мм2
  • Минимальный размер структурного элемента 0,7 мкм
  • Размер адресной сетки уменьшен до 20 нм

далее


Heidelberg ULTRA 200

  • Установка безмасковой лазерной литографии повышенной точности
  • Твердотельный лазер с диодной накачкой ультрафиолетового диапазона с длинной волны 355 нм, до 15 мВт
  • Максимальный размер подложки до 225 х 225 мм2 (опция 425 х 425 мм2)
  • Толщина подложек до 9 мм

далее


Heidelberg VPG+ 200

  • Высокопроизводительная установка безмасковой лазерной литографии
  • Импульсный УФ-диодный лазер 355 нм, до 10 мВт
  • Сменные пишущие линзы по выбору с минимальным размером элемента 0,75 мкм; 1 мкм; 2 мкм; 4 мкм
  • Максимальный размер подложки до 225 х 225 мм2

далее


Heidelberg VPG+ 400

  • Высокопроизводительная установка безмасковой лазерной литографии
  • Импульсный УФ-диодный лазер 355 нм, до 10 мВт
  • Сменные пишущие линзы по выбору с минимальным размером элемента 0,75 мкм; 1 мкм; 2 мкм; 4 мкм
  • Максимальный размер подложки до 425 х 425 мм2

далее


Heidelberg VPG+ 800; Heidelberg VPG+ 1100; Heidelberg VPG+ 1400

  • Установка безмасковой лазерной литографии
  • Импульсный УФ-диодный лазер 355 нм, до 10 мВт
  • Сменные пишущие линзы по выбору с минимальным размером элемента 0,75 мкм; 1 мкм; 2 мкм; 4 мкм
  • Максимальный размер подложки VPG+ 800:до 825 х 825 мм2

далее


Heidelberg VPG 1600

  • Крупногабаритный лазерный генератор изображений для производства фотошаблонов в больших объемах
  • Импульсный УФ-диодный лазер 355 нм, до 20 мВт
  • Максимальный размер подложки до 1600 х 1400 мм2
  • Минимальный размер структурного элемента 1,0 мкм

далее

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.