YES-G1000 (Electron Free/Downstream/RIE)

  • Компактная автоматическая установка низкочастотной плазменной очистки поверхности для производства
  • Назначение: подготовка поверхности контактных площадок для сварки; удаление загрязнений (флюса) или стерилизация поверхностей; обеспечение адгезии между двумя поверхностями; получение гидрофильных поверхностей за счет изменения поверхностного напряжения; повышение биологической совместимости; улучшение параметров полимеров образованием поперечных связей для снижения трения в процессе работы приборов
  • Пять конфигураций камеры (электродов) для обеспечения различных видов обработки: режимы мягкой анизотропной обработки —  Electron Free/Downstream Mode (подложки на отдельном электроде под плавающим потенциалом, разрядная зона образована двумя отдельными сетчатыми электродами), Active Mode (подложка на заземленном электроде внутри разрядной зоны), RIE Mode (подложка на нагруженном электроде внутри разрядной зоны); режимы изотропной обработки —  Active Ion Trap (одложка между двумя нагруженными электродами, у подложки накаплеваются ионы, проходящие через сетчатые электроды), Downstream Ion Trap (подложка между двумя заземленными электродами)
  • Процессная камера: алюминиевая, внутренние размеры — (457х457х305) мм, четыре полки (16”х16”) для обработки изделий 
  • Пластины, части пластин, чипы, нестандартные подложки
  • Источник плазмы: (0÷1000)Вт, 40кГц, с системой автоматического согласования
  • Температура подложки: (20÷100)°С
  • Газовая система: до 4 газовых линий (3 – стандартно, 1 – опционно)
  • Применяемые газы: O2, N2, Ar и прочие;расход процессных газов — (1,2÷3) л/ч при  (1,03÷1,72) бар
  • Система управления: компьютерная с сенсорным экраном; система контроля температуры
  • Азот: (1,03÷1,72) бар, 48,2 л/мин
  • Очищенный сжатый воздух: (5,5÷6,9) бар
  • Электроэнергия: установка — (200÷250)В, 20А, 1ф, 50/60Гц; вакуумный насос – (208÷230)В, (5÷7,3)А, 1ф, 50/60Гц
  • Габариты: (597×712х1133) мм
  • Вес: установки — 158,76 кг, вакуумного насоса – (50÷72) кг
  • Дополнительно и опционно: до 3-х РРГ (для газовых смесей); различные варианты вакуумных насосов

к списку