YES-CV200RFS (Downstream)

  • Компактная автоматическая установка травления нисходящей плазмой низкой частоты и очистки поверхности для НИОКР и производства
  • Назначение: удаление фоторезиста , полиимида, органических загрязнений, очистка CD матриц, удаление непроявленного фоторезиста, подготовка поверхности
  • Процессная камера: алюминиевая, с принудительным воздушным охлаждением, внутренние размеры – (254х286х50) мм, обработка по одной пластине
  • Пластины и части пластин: (50÷ 200)мм (сдвоенные пластины/части пластин – до 2-х по 100мм)
  • Источник плазмы: (150÷1250)Вт, 40кГц
  • Нагреваемый электрод-подложкодержатель 
  • Температура пластины: (30÷250)°С
  • Газовая система: 4 газовые линии с игольчатыми натекателями
  • Применяемые газы: O2, N2, Ar, NF3;расход процессных газов – (1,2÷3) л/ч
  • Система управления: компьютерная с сенсорным экраном; система контроля температуры
  • Азот: 48 л/мин
  • Электроэнергия: (200÷250)В, 20А, 1ф, 50/60Гц
  • Габариты: (597×1093х1134) мм
  • Вес: 147,5 кг
  • Дополнительно и опционно: до 4-х РРГ (для газовых смесей); система автоматического управления потоком нисходящей плазмы; система сбора и анализа данных; различные варианты вакуумных насосов

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.