AVS VISION 410 PECVD

  • Установка плазмостимулированного газофазное осаждения пленок с ручной загрузкой для НИОКР, полупроводникового производства и научных исследований в материаловедении для однопластинной или групповой обработки
  • Загрузка: 37х2”, 19х3”, 9х4”, 4х6”, ø16” – для образцов пользователя
  • Осаждаемые слои: SiO2, SiNx, SiC, a-Si, SiOxNy
  • Оптимизированный распылитель для обеспечения высокой однородности осаждения,  406-мм подложкодержатель, высокотемпературный электрод (80÷350°C),  небольшая занимаемая площадь (<1,0 м2),  до 8 газовых линий (6 каналов стандартно)
  • Источник плазмы и электрод на 600Вт 13,56 МГц (1200Вт 100-460 кГц опционно)
  • Нагреваемые элементы камеры для обеспечения высокой чистоты
  • Система обеспечения вакуума 600 м3
  • Электропитание: 380÷415В, 50Гц; 220÷230В, 50/60Гц
  • Габариты: 188,0х114,6х66,7см

к списку