VISION 322 PE/RIE

  • Установка плазмохимического/реактивно-ионного травления для НИОКР, прототипирования и мелкосерийного производства, для фундаментальных исследований материалов и преобразования поверхности
  • Загрузка: 21х2”, 9х3”, 5х4”, 1х6”, 1х8”, 1х12”
  • Библиотека стандартных технологических процессов травления: диэлектриков (травление фтористыми соединениями SiNx, SiO2, a-Si, SiOxNy, SiC, Ta2O5), металлов (травление фтористыми соединениями), полимеров (в т.ч. полиимид, бензоциклобутен, фоторезист), полупроводниковых материалов и соединений (SiC, InP и пр.)
  • Подготовка поверхности (в т.ч. изменеие кислородом свойств поверхности структурированного сапфира)
  • 305-мм подложкодержатель, открытая загрузка для удобного доступа, цифровые регуляторы массового расхода (закрытие металла, изоляция),  до 10 газовых каналов (4 – стандартно)
  • Температура термостабилизируемого подложкодержателя 5÷40°C
  • Источник емкостной плазмы 600Вт 13,56 МГц, небольшая занимаемая площадь (<0,6 м2), комплексное управление оконечными устройствами, протокол внештатных ситуаций, различные уровни доступа пользователей, управление процессом в реальном времени с визуальным отображением данных
  • Высокопроизводительная (250 л/с) система обеспечения вакуума уровня 1,0х10-6 торр
  • Электропитание: 380÷400В, 50Гц, 3ф, 16А; 200÷208В, 60Гц, 3ф, 25А
  • Габариты: 117,2(214,7)х93,4х73,0см

к списку