AVS VISION 310 PECVD

  • Базовая установка плазмостимулированного газофазное осаждения для полупровод-никового производства и материаловедения в НИОКР и мелкосерийном производстве
  • Загрузка: 21х2”, 9х3”, 5х4”, 1х6”, 1х8”, 1х12”
  • Богатый набор программ процессов осаждения, включая SiNx, SiO2, a-Si, SiOxNy и SiC
  • Оптимизированный распылитель для обеспечения высокой однородности осаждения с регулировкой для работы с нестандартными подложками, 305-мм подложкодержатель, высокотемпературный электрод (до 380°C), открытая загрузка для удобного доступа, цифровые регуляторы массового расхода, 5 газовых каналов стандартно
  • Источник емкостной плазмы 300Вт 13,56 МГц (500Вт 100-460 кГц опционно для Si3N4), не требуется водяное охлаждение, небольшая занимаемая площадь (<0,6 м2), комплексное управление оконечными устройствами, протокол внештатных ситуаций, различные уровни доступа пользователей, управление процессом в реальном времени с визуальным отображением данных
  • Система обеспечения вакуума 250 м3/ч, уровень вакуума 1,0х10-6 торр
  • Электропитание: 380÷400В, 50Гц, 3ф, 25А; 200÷208В, 60Гц, 3ф, 32А
  • Габариты: 117,2(214,7)х93,4х73,0см

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.