VERSALINE DSE

  • Установка глубокого травления кремния от НИОКР до серийного производства  МЭМС, динамических ОЗУ
  • Подложки размером до 8”
  • Варианты загрузки: загрузка через шлюз; кассетная загрузка пластин или образцов
  • Библиотека стандартных технологических процессов травления: Si, SiO2, Si3N4, SiOxNy; полиметилметакрилат, фоторезист, полиимид
  • 200-мм подложкодержатель (электрод) со стабилизацией  температуры, цифровые регуляторы массового расхода,  до 8 газовых каналов (4 – стандартно)
  • Температура термостабилизируемого подложкодержателя (электрода) -20÷+40°C (вариант: 10÷60°C)
  • Источники: RIE – 100Вт 13,56 МГц; ICP – 3500 Вт, 2 МГц, ICP-источник с температурной стабилизацией
  • Комплексное управление оконечными устройствами, протокол внештатных ситуаций, различные уровни доступа пользователей, управление процессом в реальном времени
  • Форвакуумный безмасляный насос 80 м3/ч, турбомолекулярный насос 1200 л/с, обеспечение вакуумом уровня 1,0х10-6 торр
  • Электропитание: 380В, 50Гц, 3ф; 200÷230В, 50/60Гц
  • Габариты: 207,8х188,7х64,0см – вариант с автоматическим шлюзом

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.