Veeco TurboDisc K475 MOCVD

  • Установка мос-гидридной эпитаксии для осаждения слоев As/P
  • МО ХОГФ установка для производства многослойных фотоэлектрических преобразователей
  • Установка обеспечивает прямое управление температурой пластины, малоинерционные газовые переключения для точного управления крутизной границы раздела, и автоматизацию вакуумного загрузочного шлюза для наивысшей производительности.
  • Система К475 улучшает качество продукции, производительность и доходность.
  • Вакуумная загрузка и блокировка автоматики для длительного производственного цикла и высокой производительности
  • Интегрированная технология RealTemp® 200 обеспечивает прямой автоматический контроль температуры с обратной связью
  • FlowFlange® предлагает дискретные зоны инъекций с индивидуальным подбором потоков с отличной равномерностью и повторяемостью
  • Модульный дизайн для простоты обслуживания и модернизации

к списку