Veeco Propel Power MOCVD

  • Установка мос-гидридной эпитаксии для осаждения слоев GaN
  • Установка разработана специально для силовой электроники.
  • Различные варианты кассет, включая пластины 6” и 8”
  • Технологии TurboDisc®, IsoFlange™, SymmHeat™, которые обеспечивают однородный ламинарный поток и равномерное распределение температуры по всей пластине.
  • Легкий перенос процессов из Veeco K465i™ и систем MaxBright™ на платформу Propel Power
  • Исключительная однородность пленки, высокая производительность устройства
  • Минимум дефектов при максимальной загрузке установки
  • Быстрые циклы обучения от НИОКР к производству
  • Модульная конструкция для простоты настройки, эксплуатации и технического обслуживания
  • Год выпуска: 2013

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.