Veeco Propel Power MOCVD

• Установка мос-гидридной эпитаксии для осаждения слоев GaN
• Установка разработана специально для силовой электроники.
• Различные варианты кассет, включая пластины 6” и 8”
• Технологии TurboDisc®, IsoFlange™, SymmHeat™, которые обеспечивают однородный ламинарный поток и равномерное распределение температуры по всей пластине.
• Легкий перенос процессов из Veeco K465i™ и систем MaxBright™ на платформу Propel Power
• Исключительная однородность пленки, высокая производительность устройства
• Минимум дефектов при максимальной загрузке установки
• Быстрые циклы обучения от НИОКР к производству
• Модульная конструкция для простоты настройки, эксплуатации и технического обслуживания
• Год выпуска: 2013

к списку