Veeco E450 GaNzilla MOCVD

  • Установка мос-гидридной эпитаксии для осаждения слоев GaN
  • Установка для крупносерийного производства
  • Осаждение слоев GaN для производства голубых, зеленых и УФ светодиодов, лазеров голубого спектра и полевых транзисторов
  • Устойчивый, повторимый процесс роста приводит к превосходной однородности материала и минимальному обслуживанию установки
  • Возможности высокоскоростного газового переключения и быстрого вывода на температурный режим позволяют получить наилучшую поверхность активного слоя для самых ярких светодиодов
  • Полная автоматизация, включая автоматизированную передачу пластин, обеспечивает самую высокую пропускную способность
  • Безотказная работа гарантируется надежностью подсистем и компонентов
  • Эффективная встроенная система контроля и характеристики блоков управления позволяет анализировать в режиме реального времени скорость роста, морфологию и температуру пластины
  • Укомплектована собственным особым загрузочным шлюзом для максимальной производительности.

к списку