ULVAC NLD-570 (ICP/NLD)

  • Автоматическая однокамерная установка плазмохимического травления высокоплотной плазмой низкого давления /индуктивно-связанной плазмой с  ручной загрузкой для НИОКР
  • Назначение: производство оптических приборов (световодов, усилителей, оптических переключателей, микролинз, оптических МЭМС), фотоэлектроники, систем полного микроанализа, микроструйной техники; глубокое травление SiO2; высокоскоростное травление кварца (>1мкм/мин), боросиликатного стекла (>0,8мкм/мин); травление LiNbO3, TiO2
  • Ручная загрузка
  • Процессная камера ø300мм
  • Пластины:  ø6”, оперативное управление температурой пластины
  • Температура подложки: (-20÷40)°C при использовании чиллера
  • Источник плазмы: NLD (Neutral Loop Discharge – выделение петли с нейтральным магнитным полем) – 3000Вт, 13,56МГц. Источника смещения – 1000Вт, 2МГц или 13,56МГц
  • Электроды: верхний электрод – система внешних магнитных катушек с внутренней антенной, подключенной к ВЧ-источнику; нижний электрод-подложкодержатель с электростатическим захватом и гелиевым охлаждением
  • Применяемые газы: Cl2, CF4, C3F8, C4F8, CHF3, O2, Ar, Hе, N2 и прочие
  • Вакуумная система: коррозионностойкий турбомолекулярный насос и коррозионностойкий безмасляный форвакуумный насос
  • Система управления: компьютерная, с сенсорной панелью
  • Габариты: (700x1720x1800) мм
  • Опционно: кассетная загрузка; система измерения и оповещение об окончании процесса  

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.