ULVAC NE-550EXa (ICP/RIE)

  • Автоматическая однокамерная установка плазмохимического травления высокоплотной плазмой низкого давления /индуктивно-связанной плазмой с  ручной загрузкой для НИОКР
  • Назначение: травление полупроводниковых соединений А3В5 (селективное травление GaAs, AlGaAs, InGaAs, InGaP, InP; неселективное травление – GaAs, AlGaAs, AlGaInP, InAlAs, InP, GaN, AlGaN, InGaN, AlN); высокоскоростное или щадящее травление диэлектрических слоев (SiO2, SiN, Low-K материалов; сквозное травление GaAs, InP, SiC); травление органических соединений (полиимида, бензоциклобутен); травление металлов и керамики (W, WSi, TiW, Mo, PZT, STO, BST, SBT, Ir, IrO2, Au, Pt, Ti, TiN, Ta); а также травление ITO (оксид индия-олова), сапфира, кварца, стекла, Si, SiC, C, алмазоподобного углеродного покрытия, Al, Cr, Mo
  • Ручная загрузка
  • Процессная камера с оперативным управлением температурой стенок камеры
  • Пластины:  (50÷200) мм, оперативное управление температурой пластины
  • Температура подложки: (-15÷180)°C
  • Источник плазмы: ISM (индуктивный супер магнетрон) – 1000Вт, 13,56МГц. Источника смещения – 300Вт, 13,56МГц
  • Электроды: верхний электрод – STAR Electrode (Antenna), нижний электрод-подложкодержатель с электростатическим или механическим захватом и гелиевым охлаждением
  • Газовая система: до 8 газовых линий, в том числе с РРГ, продувочный азот
  • Применяемые газы: Cl2, BCl3, SF6, CF4, C3F8, CHF3, O2, Ar, Hе, N2 и прочие
  • Вакуумная система: коррозионностойкий турбомолекулярный насос 1360 л/с и коррозионностойкий безмасляный форвакуумный насос 1333 л/мин
  • Система управления: компьютерная, с сенсорной панелью
  • Габариты: (700x1720x1800) мм
  • Опционно: кассетная загрузка; система измерения и оповещение об окончании процесса по лазерному интерферометру / оптическому эмиссионному спектрометру  

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.