TERMCO SYSTEMS – Установки формирования пористого кремния путем электрохимического анодирования монокристаллического кремния

  • Пористый кремний (ПК) для полупроводниковой промышленности, МЭМС, фотоэлектрических преобразователей, медицинских приложений
  • ПК используется в качестве формообразующей подложки для получения наноразмерных объектов с заданными структурными параметрами.
  • Развитая поверхность ПК обеспечивает улучшение адгезии осаждаемых на них пленок металлов
  • Формирование ПК путем электрохимического анодирования монокристаллического кремния, с созданием тонких оксидных пленок с порами на поверхности
  • Метод электрохимического анодирования позволяет формировать в кремнии поры очень широкого диапазона размеров от единиц нанометров до нескольких микрометров в зависимости от уровня легирования подложки, ее ориентации и режимов анодирования
  • Ячейка для проведения электрохимического анодирования состоит из ванны, выполненной из химически инертного материала, наполненной фтористоводородной кислотой (HF), в который помещают пластину монокристаллического кремния и платиновый электрод. Для инициирования электрохимического растворения на пластину кремния подают положительный (анодный) относительно платинового электрода потенциал. Электрохимическое анодирование проводят при определенной плотности анодного тока, что позволяет получать требуемую пористость, толщину ПК и воспроизводить их от процесса к процессу
  • Легкое получение небольшого количества ПК в лабораторных исследованиях
  • Специальные решения для масштабирования техпроцессов до размеров промышленного применения ПК в серийном производстве устройств микро- и наносистемной техники
  • Специализированное оборудование позволяющее работать с ВЧ кислотами и спиртами, в сочетании с электрическими процессами
  • Возможность точного контроля размеров от ангстрема до десятков микрон в толщину
  • Применение специализированного инструмента и системы аппаратной виртуализации
  • Автоматизированная обработка в одиночной камере для полупроводниковой промышленности
  • Инструментарий мини-аппаратной виртуализации: полная или полу-автоматизированная система до 6 камер
  • Средства аппаратной виртуализации: полностью автоматизированная многоуровневая обработка в ячейках
  • Круглые или квадратные подложки
  • Различные размеры пластин
  • 100% пористая кремниевая поверхность
  • Программируемый источник питания, включая функции обратного импульса
  • Автоматизированное управление химическим процессом
  • Гибкая система программируемых рецептов

Пропускная способность:

  • Экспериментальный инструмент: 5-10 WPH
  • Мини-инструмент аппаратной виртуализации: 100 – 180 WPH
  • Средства аппаратной виртуализации: > 500 WPH

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.