SENTECH Etchlab 200 (RIE)

  • Автоматическая установка реактивно-ионного травления с  открытой загрузкой для НИОКР
  • Назначение: травление полупроводниковых соединений А3В5, Si, SiO2, металлов (Au, Pt, Ti, Ni) и полимеров
  • Загрузка: непосредственно в рабочую камеру на электрод или на носитель. Загрузка по одной пластине или группе пластин на носителе
  • Пластины:  от 100мм до 200мм, оперативное управление температурой пластины за счет водяного охлаждения обратной стороны
  • Рабочая камера: алюминиевая, внутренний ø298мм
  • Электроды: параллельные, верхний электрод – алюминиевый ø250мм, нижний –электрод с подложкодержателем алюминиевый ø215мм,  водяное охлаждение; расстояние между электродами – 83мм
  • Температура подложкодержателя: (10÷40)°C   
  • Источник: 600Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления
  • Газовая система: 2 газовые линии с РРГ, продувочный азот
  • Применяемые газы: CHF3, CF4, SF6, O2, Ar, N2 и прочие
  • Вакуумная система: турбомолекулярный насос 150 л/с и коррозионностойкий форвакуумный насос с химическим фильтром;
  • Система управления: компьютерная, с Windows XP. Возможность ручного прерывания процесса
  • Электроэнергия: 400В, 3ф, 32А, 50Гц
  • Очищенный сжатый воздух: (6÷7)  кг/см2
  • Азот: (4÷5) кг/см2, 25 л/процесс
  • Охлаждающая вода: 4 кг/см2, 3 л/мин, (15÷20)°С
  • Вытяжная вентиляция: подключение к газовому шкафу – ø80мм, к насосам – DN 40 KF
  • Габариты: реакторный блок – (655x1050x1400) мм, насосный модуль – (520x500x400) мм, шкаф для основных подключений – (400x300x500) мм 
  • Вес: реакторный блок – 210 кг, компьютер с монитором – 15 кг, насосный модуль – 60 кг, шкаф для основных подключений – 24 кг
  • Опционно: загрузочный шлюз (позволяет применять хлорсодержащие газы); высокопроизводительная вакуумная система (турбомолекулярный насос 350 л/с и форвакуумный насос 40 м3/ч); система рециркуляции с чилером; дополнительные газовые линии (до 8); защитные панели электрода-подложкодержателя изразличных материалов; смотровые окна; электрод плазменного травления; температурно стабилизируемый электрод-подложкодержатель; система нагрева реактора; система измерения и оповещение об окончании процесса по интерферометру; оптический эмиссионный монитор

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.