SENTECH Depolab 200 (PECVD)

  • Автоматическая установка плазмоактивированного химического осаждения с прямой загрузкой для НИОКР
  • Назначение: осаждение SiOх, SiNу, SiOxNу и a-Si
  • Прямая загрузка по одной пластине или группе пластин (частей пластин) на носителе
  • Пластины:  ø2”, ø3”, ø4”, ø6”, ø8”, оперативное управление температурой пластины
  • Рабочая камера: алюминиевая ø298мм
  • Электроды: плоскопараллельные; верхний электрод с распылителем газов – ø218мм, нижний – алюминиевый электрод-подложкодержатель ø240мм
  • Температура подложки: (200÷400)°C   
  • Генератор ВЧ: 300Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления. Генератор НЧ (опционно) – до 1250Вт, (300÷500)кГц
  • Газовая система: 6 газовых линий с РРГ, продувочный азот
  • Применяемые газы: CF4, NH3, SiH4, O2, N2O, Ar, Nи прочие
  • Вакуумная система: форвакуумный насос; (опционно – турбомолекулярный насос)
  • Система управления: компьютерная, с Windows 7
  • Состав: реакторный блок, стойка управления, насосный модуль, шкаф для основных подключений
  • Опционно: оптический эмиссионный спектрометр; встроенный эллипсометр; высокопроизводительная вакуумная система; безмасляные вакуумные насосы; дополнительные газовые линии

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.