SAMCO RIE-230iPC (ICP)

  • Автоматическая установка травления индуктивно-связанной плазмой с кассетной загрузкой для производства, анализа отказов ИС
  • Назначение: высокоскоростное глубокое травление SiO2 и полупроводниковых соединений – InP, GaN, AlGaAs, GaAs; щадящее травление GaN, GaAs, InP для производства электронных и светоизлучающих приборов; травление ферроэлектрических материалов для приборов памяти; высокоскоростное травление для производства МЭМС; травление органических соединений  
  • Вакуумируемая загрузочная камера. Позволяет использовать хлорсодержащие и фторсодержащие реагенты
  • Перемещение пластин: вакуумным автоматическим манипулятором
  • Пластины: ø2” – до 12шт., ø4” – до 3шт., максимально – до ø8”
  • Электроды: ИСП –электрод (верхний) – Tornado Coil Electrode. Механический или электростатический держатель пластины с гелиевым охлаждением обратной стороны для управления температурой пластины
  • Температура подложкодержателя: (-10÷250)°C   
  • Источник ИСП: 1000Вт (Tornado ICP Coil)/ 3000Вт (Planar ICP Coil) /3000Вт (SSTC Coil), 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления. Источника смещения – 300/600/1000Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления
  • Газовая система: газовые линии с РРГ, продувочный азот
  • Применяемые газы: Cl2, BCl3, CHF3, O2, Ar, N2 и прочие
  • Вакуумная система: турбомолекулярный насос и роторный форвакуумный насос
  • Система управления: компьютеризированная сенсорная панель обеспечивает контроль за параметрами процесса, ввод и хранение технологических программ, протоколирование данных. Полная автоматизация процесса
  • Габариты: установка – (1206x2015x2063,5) мм
  • Окончание процесса: визуально/по интерферометру
  • Опционно: до 8 газовых линий; компьютер для управления процессом

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.