SAMCO RIE-212IP (ICP)

  • Высокопроизводительная автоматическая установка травления индуктивно-связанной плазмой высокой для производства светодиодов
  • Назначение: травление мезаструктур  GaN;  травление четверных полупроводниковых соединений, например AlInGaP;  травление сапфира; структурирование поверхности  
  • Рабочая камера: ø440мм из алюминия
  • Загрузочная камера: алюминиевая, (520х440х205)мм с ручнам открытием/закрытием камеры загрузки.
  • Пластины:  ø2” – до 12 шт., электронное оперативное управление температурой пластины
  • Электроды: ИСП –электрод (верхний) — Tornado Coil Electrode, нижний – электрод-подложкодержатель из алюминия ø238мм 
  • Источник ИСП: до 1000Вт (Tornado ICP Coil), 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления. Источника смещения – до 500Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления
  • Газовая система: 4 газовые линии с РРГ
  • Азот: установка — давление 1 кг/см2, насосы — давление (1÷7) кг/см2 
  • Вакуумная система: для рабочей камеры — турбомолекулярный насос 1300л/сек и безмасляный форвакуумный насос 1000л/мин; для загрузочной камеры — роторный форвакуумный насос 840л/мин
  • Контроль вакуума: в рабочей камере — мембранный вакуумметр (1,33÷1,33х10-3) Па; в загрузочной камере – кристаллический вакуумметр (атмосфера÷1х10-2) Па
  • Система управления: компьютеризированная сенсорная панель обеспечивает контроль за параметрами процесса
  • Электроэнергия: 200В, 3ф, 75А; заземление — Type D ground
  • Очищенный сжатый воздух: (5÷7) кг/см2
  • Охлаждающая вода: установка — (3÷4) л/мин, насосы — (4÷8) л/мин
  • Вентиляция от корпуса установки, газового шкафа и насосов
  • Габариты: (1000x1375x1670) мм
  • Опционно: до 8 дополнительных газовых линий, различные варианты насосов, система оповещения окончания процесса

к списку