SAMCO RIE-200LC

  • Полностью автоматическая установка реактивно-ионного травления с вакуумируемыми кассетным загрузчным блоком и системой перемещения для серийного производства. Конструкция позволяет применять в процессах агрессивные/токсичные газы (например, хлорсодержащие)
  • Назначение: высококачественное анизотропное травление кремниевых пленок (Si, поли-Si, SiO2, Si3N4, прочие); травление различных металлических пленок; травление полупроводниковых соединений (GaAs, GaN, InP и прочих); озоление фоторезиста и формирование контактных окон; производство волноводных устройств; микромеханическое производство
  • Загрузочный шлюз: кассетный, вакуумируемый
  • Перемещение пластин: вакуумный робот
  • Пластины:  до ø8” или партии из нескольких пластин
  • Электроды: верхний – алюминиевый электрод ø240мм с распылителем газа, нижний – из нержавеющей стали электрод-подложкодержатель ø240мм  и с жидкостным охлаждением; фиксированный зазор между электродами.
  • Электростатический держатель и температурная стабилизация пластины.
  • ВЧ-генератор: 300Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления
  • Газовая система: 3 газовые линии процессных газов с РРГ давлением 1 кг/см2, продувочный азот с давлением 1 кг/см2
  • Применяемые газы: хлор- и фторсодержащие, инертные
  • Вакуумная система: турбонасос 200л/сек и роторный форвакуумный насос 250л/мин
  • Система управления: компьютеризированная сенсорная панель обеспечивает контроль за параметрами процесса, ввод и хранение технологических программ.  Полная автоматизация процесса (одной кнопкой) и возможностью ручнго управления
  • Электроэнергия: 200В, 3ф
  • Очищенный сжатый воздух: (5÷7) кг/см2
  • Охлаждающая вода: давление – (3÷5) кг/см2
  • Габариты: (1206x2000x2100) мм
  • Окончание процесса: по оптическому интерферометру 
  • Опционно: до 6 дополнительных газовых линий, система оповещения окончания процесса, скруббер для очистки выхлопного газа, вакумные насосы

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.