SAMCO PD-5400 (PECVD)

  • Автоматическая установка анодного плазмо-активированного химического осаждения тонких пленок с открытой загрузкой для НИОКР и решения производственных задач
  • Назначение: осаждение кремнесодержащих тонких пленок: оксидов кремния (SiOx), нитридов кремния (SixNy), оксинитридов кремния (SiOxNy), аморфного кремния (a-Si:H) и алмазоподобных углеродных покрытий
  • Загрузка ручная, открытая
  • Подложкодержатель: 540 мм
  • Обработка по одной пластине или групповая
  • Температура подложкодержателя: (20÷400)°C   
  • Мощность ВЧ-генератора — 300Вт, опционно возможна поставка НЧ-генератора
  • Газовая система: до 8 газовых линий, опционно возможна подача жидкого реагента
  • Применяемые газы: SiH4, NH3, N2 и т.д.
  • Вакуумная система: механический бустерный насос и роторный насос
  • Система управления: с сенсорного компьютеризированного дисплея; предусмотрен полный комплект необходимых блокировок
  • Вытяжная вентиляция: для выхлопа форвакуумного насоса (от рабочей камеры) для обеспечения безопасности персонала
  • Габариты: (1600x1100x1800) мм
  • Окончание процесса: оптическое определение момента завершения процесса
  • Опционно: дополнительные газовые линии; турбомолекулярный насос; блок очистки газов

к списку