SAMCO PD-3800L (PECVD)

  • Автоматическая установка анодного плазмо-активированного химического осаждения тонких пленок для массового производства с камерой загрузки
  • Назначение: осаждение кремнесодержащих тонких пленок: оксидов кремния (SiOx), нитридов кремния (SixNy), аморфного кремния (a-Si:H), керамических тонких пленок
  • Загрузка: через загрузочный шлюз
  • Перемещение пластин: линейным автоматическим манипулятором
  • Подложкодержатель: ø350 мм
  • Обработка по одной пластине или групповая
  • Использование загрузочного шлюза позволяет постоянно держать рабочую камеру в условиях вакуума, что особенно важно при использовании легирующих газов
  • Обработка по одной пластине или групповая
  • Температура подложкодержателя: (20÷400)°C   
  • Мощность ВЧ-генератора — 300Вт, опционно возможна поставка НЧ-генератора
  • Газовая система: до 8 газовых линий, опционно возможна подача жидкого реагента
  •  Применяемые газы: SiH4, NH3, N2 и т.д.
  • Вакуумная система: турбонасос, механический бустерный насос и роторный насос
  • Система управления: с сенсорного компьютеризированного дисплея
  • Вытяжная вентиляция: для выхлопа форвакуумного насоса (от рабочей камеры) для обеспечения безопасности персонала
  • Окончание процесса: оптическое определение момента завершения процесса

к списку