SAMCO PD-3800 (PECVD)

  • Автоматическая установка анодного плазмо-активированного химического осаждения тонких пленок с открытой загрузкой для НИОКР и производственных задач
  • Назначение: осаждение кремнесодержащих тонких пленок: оксидов кремния (SiOx), нитридов кремния (SixNy), оксинитридов кремния (SiOxNy), аморфного кремния (a-Si:H) и алмазоподобных углеродных покрытий
  • Загрузка ручная, открытая: подложки 210 х 295 мм
  • Нижний электрод: 360 мм
  • Обработка по одной пластине или групповая
  • Температура подложкодержателя: (20÷400)°C   
  • Мощность ВЧ-генератора – 300Вт, опционно возможна поставка НЧ-генератора
  • Газовая система: до 8 газовых линий, опционно возможна подача жидкого реагента
  • Применяемые газы: SiH4, NH3, N2 и т.д.
  • Вакуумная система: механический бустерный насос и роторный насос
  • Система управления: с сенсорного компьютеризированного дисплея
  • Вытяжная вентиляция: для выхлопа форвакуумного насоса (от рабочей камеры) для обеспечения безопасности персонала
  • Окончание процесса: оптическое определение момента завершения процесса   

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.