SAMCO PD-330STLC(PECVD)

  • Автоматическая установка катодного плазмо-активированного химического осаждения пленок с кассетной загрузкой для серийного производства
  • Применяются жидкостные источники реагентов (TEOS) и низкотемпературные процессы (80÷300) °Cдля обеспечения высокой скорости осаждения ненапряженных пленок SiO2
  • Сильное электрическое поле вокруг подложкодержателя с катодной связью генерирует ионы с высоким уровнем энергии, обеспечивающими осаждение пленок SiO2 с низким остаточным напряжением и предельной толщиной пленки порядка 30 мкм 
  • Назначение: для организации переходных отверстий в кремнии и 3D-упаковки; высококонформные пленки для МЭМС; высокоскоростное осаждение толстых пленок: оксидов кремния (до 30 мкм); производство световодов; производство масок для травления для микромеханики; осаждение пленок на пластиковые поверхности; низкотемпературное осаждение (от температуры окружающего воздуха до 300°C) высокоскоростное (>300 нм/мин) осаждение пленок
  • Загрузка: пластины 6″ – 3шт., либо одиночные – до 12”
  • Перемещение пластин: через вакуумируемые кассетный загрузочный шлюз с вакуумным кассетным элеватором  и транспортировочную камеру с вакуумным автоматическим манипулятором
  • Обработка по одной пластине или групповая
  • Усовершенствованная внутренняя стенка камеры
  • Температура подложкодержателя: (20÷400)°C   
  • Мощность ВЧ-генератора – 1кВт/1,5кВт
  • Газовая система: до 4 газовых линий и модуль подачи жидкого реагента
  • Вакуумная система: турбонасос, механический бустерный насос и роторный насос
  • Система управления: с сенсорного компьютеризированного дисплея.  Полная автоматизация процесса
  • Вытяжная вентиляция: от выхлопа форвакуумного насоса для обеспечения безопасности персонала
  • Окончание процесса: оптическое определение момента завершения процесса

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.