• Кластерная установка анодного плазмо-активированного химического осаждения пленок для пилотного производства. В кластере вокруг центрального загрузочного блока могут быть размещены до 3-х блоков с рабочими камерами
  • Назначение: пилотное производство жидкокристаллических дисплеев; осаждение пассивирующих слоев для органических электролюминесцентных приборов; осаждение аморфного кремния (a-Si:H) для солнечных элементов; осаждение пленок: оксидов кремния (SiOx) и нитридов кремния (SixNy)
  • Габариты основного блока: 1613 x 2145 x 1799 мм

к списку