SAMCO PC-1100(RIE/PE)

  • Автоматическая настольная установка плазменной очистки (реативно-ионное/плазменное травление) с  ручной загрузкой для НИОКР и производства
  • Назначение: очистка поверхности пластиковых корпусов, оснований жидкокристаллических дисплеев, многочиповых модулей и гибридных ИС;  прецезионная очистка оптических компонентов; обработка поверхности текстильных и полимерных материалов; озоление фоторезиста; удаление пасты для толстопленочных микросхем; удаление органических загрязнений
  • Рабочая камера: из нержавеющей стали, (459x615x459) мм. Смотровое окошко ø66 мм в алюминиевой двери камеры с ручным открытием/закрытием
  • Пластины:  от ø2” до ø 300 мм
  • Электроды: алюминиевые, параллельные. Заземленный электрод — (405×410) мм, подключенный ВЧ-источнику электрод — (350×425) мм
  • Возможные режимы обработки: RIE, PE или режим нисходящего потока
  • Источник ВЧ: до 600Вт, 13,56МГц
  • Газовая система: 2 газовых линии с РРГ, продувочный азот
  • Применяемые газы: CF4, O2, Ar, N2 и прочие
  • Вакуумная система: форвакуумный насос
  • Контроль вакуума: мембранный мановакуумметр (1,33х103÷1,33х10-1) Па
  • Система управления: компьютеризированная сенсорная панель обеспечивает контроль за параметрами процесса, ввод и хранение до 100 технологических программ, протоколирование данных. Возможность ручного управления
  • Электроэнергия: 480В, 3ф, 60Гц, 20А
  • Очищенный сжатый воздух: (5÷7) кг/см2
  • Азот: на установку и на безмасляные насосы
  • Вытяжная вентиляция от  насоса, патрубок NW 25×1
  • Габариты: установка — (868x939x602) мм, тумба — (860x850x703) мм; вакуумный насос — габариты насоса могут изменяться в зависимости от модели
  • Опционно: дополнительные газовые линии с РРГ; дополнительные рабочие лотки; мощный ВЧ-генератор (1 кВт)

к списку