PlasmaPro 80 PECVD

  • Компактная малогабаритная установка для плазмоактивированного химического осаждения из газовой фазы с открытой системой загрузки для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение – плазмоактивированное химическое осаждение из газовой фазы диэлектириков (SiO2, SiNx, SiOxNy), кремния (Si, a-Si, поли-Si), карбида кремния (SiС), алмазоподобное углеродное покрытие (DLC)
  • Подложки: до ø 200 мм
  • Управление температурой  подложки от 20 до 400°C
  • Нижний электрод (подложкодержатель)  ø 240 мм
  • Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • Источник плазмы: RF-генератор 13,5 МГц
  • В верхний электрод вмонтирован распылитель газа
  • Возможность подключения до 12 газовых линий
  • Котроль травления с помощью лазерной интрферометрии или рефлектометрии, оптической эмиссионной спектрометрии
  • Габариты: 1256 x 762 x 1527 мм

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.